摘要
本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni-P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响;并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究。结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,以P型Si(100)作为基底时,膜层颗粒度及平整度较好。
The Ni- P Films are electrolessly deposited respectively on n- Si（100） and p- Si（100）. On the same preparation condition , the surface images and compositions of films on different substrate are analyzed by SEM and energy spectrometer , and flatness of films is studied by AFM. And The results show that the surface images, flatness and compositions of films are apparently dense as p -Si substrate and n -Si substrate, the quality of films on p -Si substrate is preferable.
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期564-568,共5页
Journal of Functional Materials and Devices
基金
国家自然科学基金项目(51072184
51002143)
航空科学基金项目(2009ZE55003
2010ZF55013)
河南省基础与前沿技术研究计划项目(092300410139)
河南省教育厅自然科学基金项目(2011A140027)
作者简介
作者简介：麻华丽，（1977-），女，河南驻马店人，讲师，硕士，主要从事纳米薄膜材料研究。
