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用于激光光束随机漂移校正的算法研究 被引量:1

Research of Algorithms to Correct the Random Drifts of Laser Beams
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摘要 在分析移动平均值(MA)校正机理的基础上,本文分别利用补偿量和补偿量的移动平均值作为校正量对激光光束随机偏差进行校正。以光束传递系统中利用快速反射镜校正脉冲激光器自身漂移的过程为例,介绍了利用移动平均值(MA)进行闭环控制的稳定光束的算法,给出了两种校正量的仿真结果,并对比加载地面抖动前后的校正效果。结果表明,基于此原理的算法能很好的校正激光光束随机漂移,最优处可将MA值降至校正前的1/15倍,并且可以实现对光束随机漂移的实时控制,具有实用性。其应用关键在于构造合适的调整量公式。 On the basis of analyzing Moving Average(MA) correction mechanism,random deviations of laser beams are adjusted with the compensation and the moving average of compensation in this paper.Take the progress of adjusting random deviations of pulse laser beams with fast steering mirrors in the beam delivery system as an example.Closed-loop control algorithms for beams stabilization based on MA are introduced.The simulation results are presented,and the correction effects with the ground vibrations or not are illustrated.The outcomes indicate that algorithms based on MA will control the random drifts effectively,which prove that the optimal MA can be reduced to 1/15 times.Meanwhile,these methods which can achieve real-time control are practical.The key of applications lies in construction of the appropriate correction formula.
出处 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第12期115-119,共5页 Opto-Electronic Engineering
关键词 激光光束 随机漂移 光束校正 移动平均值 laser beams random drifts beam correction moving average
作者简介 张丽霞(1988-),女(汉族),山西太原人。硕士,主要从事光束稳定方法的研究。E-mail:Zlxkx88@126.com。
  • 相关文献

参考文献6

  • 1赵维谦,谭久彬,马洪文,邹丽敏.漂移量反馈控制式激光准直方法[J].光学学报,2004,24(3):373-377. 被引量:13
  • 2Dirk Basting, Gerd Marowsky. Exeimer Laser Technology [M]. 2005.
  • 3Leonard Lublin, David Warkentin, Palash P Das, et al. High-Performance beam stabilization for next-generation ArF beam delivery systems [J]. SPIE(S0277-786X), 2003, 5040(2003): 1682-1693.
  • 4Cymer, Inc. Illumination apparatus and method for controlling energy of a laser source: US, 2009/0201955 A1 [P]. 2008-02-07.
  • 5Das Palash P, Webb R Kyle, Glowanardl Marco, et al. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control [P]. US2004/0022291A. 2003-4-29.
  • 6ASML荷兰有限公司.光刻装置、器件制造、性能测量及校准方法和计算机程序:中国,CN03140753.6[P].2003-5.

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共引文献12

同被引文献7

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