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用于金刚石薄膜低压气相合成的ECR—PECVD装置
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摘要
低压气相合成金刚石薄膜是目前的热门课题。本文介绍用于金刚石薄膜生长而开发的ECR—PECVD装置的工作原理、基本构成、结构特点及其主要技术指标。
作者
杨基南
廖佐升
吴京波
魏庆生
机构地区
机械电子工业部第
出处
《微细加工技术》
1990年第2期22-24,共3页
Microfabrication Technology
关键词
金刚石
薄膜
气相合成
PECVD装置
分类号
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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微细加工技术
1990年 第2期
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