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NO^+BF4^-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究

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摘要 有机合成中,叔丁基二甲基硅甲(TBS)醚和四氢吡喃(THP)醚常被用以保护羟基,氟离子和酸性水溶液又可以很容易地使其分解而脱保护.近年来,化学氧化法脱除这些保护基尽管有了新的进展,然而用于此目的的氧化剂却存在一些缺点,诸如:用量大、反应条件苛刻、操作复杂等.
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第24期2451-2451,共1页 Chinese Science Bulletin
基金 国家自然科学基金资助项目(20572040)
作者简介 联系人,E—mail:nlaoc@lzu.edu.cn
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