摘要
在低真空下，用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ｔａ２Ｏ５减反射薄膜。测定表明，其减反射性能良好。
Stoichiometric amorphous Ta 2O 5 antireflection thin films have been deposited on solar cells with reactive r f sputtering technique in low vacuum.The properties of the films have been investigated.The films on silicon solar sells display satisfying antireflection performance.
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期332-334,共3页
Acta Energiae Solaris Sinica
基金
云南省教委科学研究基金
关键词
射频反应溅射
减反射薄膜
五氧化二钽
low vacuum,r f sputtering,Ta 2O 5 antireflection thin film,PV apprication
