摘要
康普顿散射中影响康普顿谱线位置的因素是十分复杂的,文章主要针对影响康普顿谱线位置的几个因素作了理论探讨,得出影响因素主要在于:电子具有初速度会增大散射波长的改变量;束缚能的存在要减小峰值波长的改变量;双光子散射和二次散射与谱线峰值位置的关系不大,二者对峰值波长的改变是不确定的、复杂的、在连续的范围内变化的.最后对康普顿谱线位置和康普顿轮廓的理论研究和应用前景作了展望.
The factors which influence the Compton line in Compton scattering are very complex. Those main factors are discussed, they include： the initial velocity can enlarge the changed wavelength; the bound energy could reduce the changed wavelength; the double Compton scattering and the Compton scattering which produces two photons change the changed wavelength, and the changed wavelength is uncertain, complex and continuous. At last the authors draw a conclusion and make a prospect for the research of the theory and its applications of Compton line and profile.
出处
《大学物理》
北大核心
2007年第3期31-34,共4页
College Physics
基金
重庆师范大学校级科研资助项目(05XSY002)
关键词
康普顿散射
康普顿轮廓
二次散射
波长改变量
Compton scattering
Compton profile
double Compton scattering
changed wavelength
作者简介
罗光（1973-）男，重庆师范大学讲师，重庆大学材料科学与工程学院博士研究生，主要从事理论物理和材料科学的研究工作．
