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X波段同轴腔多注速调管的研究 被引量:20

Study of a X-Band Coaxial Cavity Multi Beam Klystron
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摘要 开展了具有同轴谐振腔互作用电路和双模工作杆控电子枪的X波段同轴腔双模多注速调管的研究工作.结合数值计算和冷测实验,对工作于TM310高次模的同轴谐振腔模式分布和特性参数进行研究,获得了可满足多注速调管要求的谐振腔特性阻抗和良好的模式稳定性.采用具有双控制极的新型杆控多注电子枪及电子光学系统,可使多注速调管具有双模的新工作特性,通过数值模拟获得了优化的几何参数和具有良好层流性和波动性的空心多电子注.对采用6个电子注和5个谐振腔的X波段多注速调管进行了注波互作用大信号计算,结果表明当电子注电压为21.5kV,脉冲电流为14.4A时,可在30MHz频带范围内获得的100kW左右的脉冲输出功率,互作用效率大于30%,增益大于36dB. The X-band coaxial cavity multi beam klystron(MBK) with its beam-wave interaction system and new type of pole controlled electron gun is studied. With the numerical simulation and experiment, the characteristic parameters of high mode TM310 are achieved with the appropriate impedance and stable field distribution. Using the pole controlled electron gun with double focus electrodes and its optical system, the MBK can work both in pulse and continuous pattern, and the optimized geometry parameters with high quality hollow electron beam are obtained. The non-linear calculation of beam-wave interaction is used for the X- band MBK with six electron beams and five cavities. The results show that the output peak power is about 100 kW within 30MHz bandwidth, with the interaction efficiency more than 30 %, and the gain above 36dB.
出处 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第B12期2337-2341,共5页 Acta Electronica Sinica
关键词 多注速调管 高次模同轴腔 杆控电子枪 空心电子注 multi beam klystron high mode coaxial cavity pole controlled electron gun hollow electron beam
作者简介 丁耀根 男,1942年5月生于江苏省武进市,现为中国科学院电子学研究所研究员,博导,1965年毕业于南京大学,1986—1987年在英国Strathclyde大学电子电气工程系作访问学者,长期从事大功率微波电真空器件-多注速调管和大功率宽带速调管的研究工作,负责和参加了20多项国家重点工程用的微波器件的研究,获重要科技成果10多项,在国内外学术刊物和会议上发表论文近100篇.E-mail:dingyg@mail.ie.ac.cn 阮存军 男,1974年8月出生于甘肃省天水市,博士,副研究员,1992至2003年先后在清华大学获得理学学士、硕士和博士学位,2001至2002年在德国Muenster大学进行了为期半年的合作研究.目前主要从事多注速调管、带状注速调管以及高功率微波脉冲压缩技术方面的研究工作,在国内外学术刊物和会议上发表相关论文20篇.E—mail:ruancunjun99@mails.tsinghua.edu.cn
  • 相关文献

参考文献5

  • 1丁耀根.多注速调管技术的新进展[J].真空电子技术,2002,15(5):8-14. 被引量:19
  • 2Pearce P,Geneva C H. Multi-beam klystron(MBK) design and development for CLIC [ R ]. Report in Institute of Electronics,Chinese Academy of Sciences, 2002.
  • 3Ho Chin Yong, Matsumoto Shuji, Keiji Ohya, et al. Develop of X-band PPM klystrons for JLC project[ A]. Third IVEC Proceeding[ C]. CA Monterry, California, USA, 2002.294 - 295.
  • 4Eisen E L, Stockwell B, Jongewaard E, et al. Product improvement efforts for a 75MW pulsed PPM focused X-band klystron for use in the next linear collide [ A ]. Third IVEC Proceeding[ C ]. CA Monterry, California, USA, 2002.290 - 291.
  • 5Sprehn D. Recent testing of X-band PPM klystrons in the Klystron Department at SLAC [ A ]. Fifth IVEC Proceeding[ C]. CA, Monterry, California, USA, 2004.342 - 343.

二级参考文献7

  • 1丁耀根,彭钧.多注速调管——一种新型大功率微波放大器[J].电子科学学刊,1996,18(1):64-71. 被引量:26
  • 2丁耀根,彭钧,朱允淑,师绍明,殷岫龄,张月兰,赵京君,蒋振柏,鲍明强.S波段多注宽带速调管的研制[J].电子科学学刊,1996,18(2):221-224. 被引量:12
  • 3丁耀根 彭均 等.多注速调管的研究进展.中国电子学会真空电子学分会第十一届学术年会论文集[M].青岛,1997.118-121.
  • 4丁耀根 彭均 等.多注速调管的研究进展.中国电子学会真空电子学分会第十一届学术年会论文集[M].贵阳,2001,8.112-114.
  • 5张益林.5cm波段高次模多注速调管.中国电子学会真空电子学分会第十三届学术年会论文集[M].贵阳,2001,8.139-142.
  • 6丁耀根.多注速调管双间隙耦合腔特性的三维计算.中国电子学会真空电子学分会第十一届学术年会论文集[M].青岛,1997,8.122-124.
  • 7丁耀根.多注速调管电子光学系统的研究[J].电子科学学刊,2000,22(3):485-491. 被引量:16

共引文献18

同被引文献116

引证文献20

二级引证文献51

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