摘要
采用13.56MHz射频等离子体聚合装置,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四甲基硅氧烷(TMDSO)为单体、氧气以及氮气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET等基材上沉积硅氧氮薄膜。在薄膜的制备工艺研究中,通过改变放电工作压强、放电功率、沉积时间和氧气、氮气、氩气和单体的比例等,研究所制备硅氧氮薄膜的性能。通过傅立叶红外光谱仪(FTIR)表征分析沉积膜的化学组成;采用透湿、透氧测试仪测试薄膜的阻隔性能,探讨工艺参数的变化对薄膜表面的成分和阻隔性能影响以及氮的加入对薄膜柔韧性的影响。
The characterization of Si-O-N films on PET substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition for transparent barrier application was investigated. The films were prepared by interelectrode capacitively coupled type apparatus and on conditions with carrier gas Ar2 , O2 , N2, and monomer Tetramethyl-disiloxane（TMDSO） or Hexamethyldisiloxane（HMDSO） , discharge frequency of 13.56MHz. The film properties, such as compose and structure, flexibility, water vapor transmission rate（WVTR）, and oxygen transmission rate （ OTR ） were tested. The characteristics of thin films were investigated through Fourier transform infrared adsorption spectroscopy （FTIR）.
出处
《包装工程》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期10-12,22,共4页
Packaging Engineering
基金
北京市教委基金(KM2050001)
北京印刷学院引进人才基金资助
作者简介
周美丽（1980-），女，山东人，硕士，北京印刷学院助教，主要研究方向为低温等离子体。
通讯作者：陈强，男，教授，硕士生导师。
