期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
军用电子封装外壳镀金层纯度与镀液杂质
被引量:
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
导出
摘要
简要介绍了美军标对电子封装镀金层的要求,分析了镀液中的杂质共沉积或夹带对镀金层结构和性能的影响,强调了减少镀液杂质污染,提高镀金层纯度对改善国产军用电子封装质量的重要性。
作者
沈卓身
杨晓战
许维源
机构地区
北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第5期53-55,共3页
Semiconductor Technology
关键词
电子封装
镀金层
镀液
污染
军用半导体
分类号
TN305.94 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
7
引证文献
4
二级引证文献
6
同被引文献
7
1
钟治东.
半导体器件镀金发展概况[J]
.材料保护,1990,23(5):12-15.
被引量:1
2
(GJB1941 94)金电镀层规范
3
Duffek E F, Proc 4th Plating in the Electronics Industry Symposium, AmericanElectroplaters Society[C].Indianapolis, 1973. 194.
4
Glassby R K, Gill J A, Bradford G. Analysis of Gold Alloy Plating Solution[J].Electroplating and Metal Finishing, 1996,19(12) :432.
5
[德]P·W·魏尔德(P·W· Wild) 编著,杨家昌,曾华梁.电镀溶液的现代分析[M]轻工业出版社,1980.
6
杨晓战,沈卓身,魏忻,许维源.
镀金溶液中重金属杂质的常见分析方法[J]
.电子工艺技术,1998,19(1):24-27.
被引量:3
7
沈卓身,杨晓战,魏忻,任菲.
镀金液中铜杂质的分光光度分析[J]
.材料保护,1999,32(10):17-17.
被引量:7
引证文献
4
1
杨晓战,沈卓身,魏忻,许维源.
镀金溶液中重金属杂质的常见分析方法[J]
.电子工艺技术,1998,19(1):24-27.
被引量:3
2
沈卓身,杨晓战,任菲,魏忻.
电子封装镀金液中铁杂质的分光光度分析[J]
.材料保护,2000,33(6):12-13.
被引量:2
3
杨晓战,魏忻,任菲,张炜,段慧,沈卓身,许维源.
电子封装镀金液金属杂质的控制管理[J]
.半导体技术,2000,25(6):39-41.
4
沈卓身,杨晓战,魏忻,任菲.
电子封装镀金液中镍杂质的光度分析[J]
.理化检验(化学分册),2001,37(9):422-422.
被引量:1
二级引证文献
6
1
何轶伦,连琰,邱昌桂.
流动注射在线稀释测高浓度的铁[J]
.理化检验(化学分册),2004,40(11):629-631.
被引量:3
2
张运徽,王益凡.
ABS塑料镀金工艺[J]
.三明高等专科学校学报,2004,21(4):72-74.
被引量:1
3
邢霞,刘学文,陈玉.
邻菲啰啉光度计法测定黑液中总铁含量的研究[J]
.广州化工,2010,38(11):144-146.
被引量:1
4
沈卓身,杨晓战,任菲,魏忻.
电子封装镀金液中铁杂质的分光光度分析[J]
.材料保护,2000,33(6):12-13.
被引量:2
5
杨晓战,魏忻,任菲,张炜,段慧,沈卓身,许维源.
电子封装镀金液金属杂质的控制管理[J]
.半导体技术,2000,25(6):39-41.
6
冯玉怀,杨丙雨.
2001年中国金分析测定的进展[J]
.黄金,2002,23(12):38-43.
被引量:1
1
亚太区车用芯片需求可望超越欧洲[J]
.中国集成电路,2016,0(11):9-9.
2
温廷琏,吕之奕,屠恒勇,方家熊,李言谨,赵军.
HgCdTe晶体上Cd和Te的阴极共沉积[J]
.无机材料学报,1996,11(1):131-136.
被引量:1
3
陈伟民,李平,文玉梅.
LED芯片/器件封装缺陷的非接触检测技术[J]
.中国照明,2009(11):72-76.
4
沈忠哲,郑廷珪,吴文章,李少平,张晓明.
器件塑料封装质量的快速评估一例[J]
.电子产品可靠性与环境试验,2000,18(2):24-28.
5
许斌.
采用TEG技术的半导体集成电路可靠性评价方法[J]
.微电子学,2012,42(6):855-859.
被引量:4
6
李昆,史冰川,董俊,黄磊,亢若谷,邱建备.
直拉硅单晶制备中来自于石英坩埚的受主杂质污染定量分析[J]
.云南冶金,2016,45(2):114-118.
被引量:3
7
胡海洋,范正修,刘晔,赵强,范瑞瑛,黄日成.
杂质对光学薄膜激光损伤阈值的影响[J]
.中国激光,1999,26(6):489-492.
被引量:19
8
于祥苓,戴俊夫.
清洗在集成电路封装过程中对静态电源电流(IDDSB)的影响[J]
.电子制作,2015,23(5X).
9
冷永刚.
基于彩信广告的免费增值业务选购系统设计[J]
.数字通信,2012,39(1):66-68.
10
刘秀喜,孙瑛.
硅片杂质污染俄歇分析及脱水烘干法[J]
.山东师范大学学报(自然科学版),1992,7(2):25-30.
半导体技术
1996年 第5期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部