一种新型光敏成像体系－HCF－LPR－Hox的研制和应用被引量：1

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摘要研制了一种新型光敏成像体系ＬＰＲ－ＨＣＦ－Ｈｏｘ，从理论上探讨了感光主体ＨＣＦ的光反应性，确定了体系的组成、比例、涂布用量等工艺条件，选择了曝光显影条件，测定了体系的感光特性曲线。这种体系不仅具有良好的亲油性、成膜性和光固化性，而且曝光灵敏度高，分辨率也较好，具有一定的开发应用价值。

作者储高升车得基

机构地区中国科学技术大学应用化学系

出处《化学世界》 CAS CSCD 1995年第2期59-62,共4页 Chemical World

关键词光敏成像曝光显影 HCF 光反应性铁有机化合物

分类号 O627.81 [理学—有机化学] O644.16 [理学—物理化学]

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