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宏力和SYNOPSYS携手开发参考设计流程

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摘要 Synopsys公司与上海宏力半导体制造有限公司(Grace)近日宣布,Synopsys的专业服务部和宏力已经联合开发出了一个用于宏力的0.18微米的参考设计流程。这个RTL—to—GDSII的设计流程建立在经Synopsys验证的Galaxy设计和Discovery验证平台的基础之上。最终用户可以通过下载预先验证的参考设计流程.迅速开始IC的设计和验证.用户相信使用这个设计流程能够迅速达到预期的最优结果。该参考设计流程将很快由宏力推出。
出处 《中国集成电路》 2005年第3期21-21,共1页 China lntegrated Circuit

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