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光栅掩膜版的机械刻划与CAD/激光光绘系统

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摘要 传统的光栅掩膜版制造技术是以机械刻划(浮刻)为主,如欲提高刻划精度,无外乎是在刻划设备(机床)、刻划刀具,夹具上动脑筋,基本上可以说是万变不离其“刻”,然而CAD/激光光绘系统却以全新的面目取代了刻划。本文以制造光栅掩膜版为例,介绍了这两种有着质的区别的“刻划”方法。
作者 熊祥玉
出处 《电子工艺技术》 1994年第6期20-22,共3页 Electronics Process Technology
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参考文献1

  • 1[日]森罔茂树等,.微型计算机CAD基础及实践[M]电子工业出版社,1988.

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