摘要
石墨烯具有优异的电学、光学、热学和力学等性质,在学术界和工业界都受到极大的关注和重视。众所周知,制备决定材料的未来。化学气相沉积方法(Chemical Vapor Deposition,CVD)是目前制备大面积、高质量石墨烯薄膜的最佳选择1,2。近年来,针对石墨烯薄膜缺陷浓度、畴区尺寸、堆垛方式、层数、掺杂浓度等的精确控制均取得了一系列进展3–5。
作者
成会明
Huiming Cheng(Shenzhen Geim Graphene Center,Tsinghua-Berkeley Shenzhen Institute,Tsinghua University,Shenzhen 518055,Guangdong Province,P.R.China;Advanced Carbon Division,Shenyang National Laboratory for Materials Science,Institute of Metal Research,Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016,P.R.China.)
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2020年第2期16-17,共2页
Acta Physico-Chimica Sinica
作者简介
成会明,Emails:cheng@imr.ac.cn,hmcheng@sz.tsinghua.edu.cn.
