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Ti6Al4V无氢离子氮化工艺研究
1
作者
张云琨
王树臣
+1 位作者
张艳鸿
董旭
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012年第2期203-204,共2页
对Ti6Al4V进行以氮气为气源的无氢离子氮化工艺研究,氮化温度分别为700、750、800和900℃,保温时间4 h,通过金相检验、显微硬度测定和X射线衍射结构分析,研究了离子氮化温度等参数对渗层厚度、硬度和组织结构的影响规律。结果表明:温度...
对Ti6Al4V进行以氮气为气源的无氢离子氮化工艺研究,氮化温度分别为700、750、800和900℃,保温时间4 h,通过金相检验、显微硬度测定和X射线衍射结构分析,研究了离子氮化温度等参数对渗层厚度、硬度和组织结构的影响规律。结果表明:温度是影响无氢离子氮化渗层厚度、硬度的主要因素,900℃的氮化层表面硬度达到897 HV,渗层厚度达到0.32 mm;氮化层由Ti2N(ε相)和TiN(δ相)组成。
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关键词
离子氮化
氮气
TI6AL4V
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职称材料
题名
Ti6Al4V无氢离子氮化工艺研究
1
作者
张云琨
王树臣
张艳鸿
董旭
机构
f长春奥普光电技术股份有限公司
出处
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012年第2期203-204,共2页
文摘
对Ti6Al4V进行以氮气为气源的无氢离子氮化工艺研究,氮化温度分别为700、750、800和900℃,保温时间4 h,通过金相检验、显微硬度测定和X射线衍射结构分析,研究了离子氮化温度等参数对渗层厚度、硬度和组织结构的影响规律。结果表明:温度是影响无氢离子氮化渗层厚度、硬度的主要因素,900℃的氮化层表面硬度达到897 HV,渗层厚度达到0.32 mm;氮化层由Ti2N(ε相)和TiN(δ相)组成。
关键词
离子氮化
氮气
TI6AL4V
Keywords
ionitriding
nitrogen
Ti6Al4V
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
Ti6Al4V无氢离子氮化工艺研究
张云琨
王树臣
张艳鸿
董旭
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012
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