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活跃于先端半导体制造技术开发的JSR株式会社
1
作者
解红山
《集成电路应用》
2005年第1期79-80,共2页
作为世界半导体的先进供应商和研究机构——JSR配合每年度的Semicon Japan，举行JSR Seminar并召集演讲者，介绍先端技术及课题的发展状况。JSR半导体部门一直致力于光刻胶和其它周边的材料、研磨液、Pad等CMP消耗材料的开发、制造和销...
作为世界半导体的先进供应商和研究机构——JSR配合每年度的Semicon Japan，举行JSR Seminar并召集演讲者，介绍先端技术及课题的发展状况。JSR半导体部门一直致力于光刻胶和其它周边的材料、研磨液、Pad等CMP消耗材料的开发、制造和销售。JSR于2004年12月3日召开了the JSR Seminar。本年度的JSR Seminar集中于Lithography技术的研发，45nm node以下技术也纳入视野作为会议焦点。本文就JSR Seminar中的报告进行介绍如下：
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关键词
JSR公司
IMMERSION
曝光机
光刻胶
Top-coat材料
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职称材料
题名
活跃于先端半导体制造技术开发的JSR株式会社
1
作者
解红山
机构
jsr株式会社上海事务所
出处
《集成电路应用》
2005年第1期79-80,共2页
文摘
作为世界半导体的先进供应商和研究机构——JSR配合每年度的Semicon Japan，举行JSR Seminar并召集演讲者，介绍先端技术及课题的发展状况。JSR半导体部门一直致力于光刻胶和其它周边的材料、研磨液、Pad等CMP消耗材料的开发、制造和销售。JSR于2004年12月3日召开了the JSR Seminar。本年度的JSR Seminar集中于Lithography技术的研发，45nm node以下技术也纳入视野作为会议焦点。本文就JSR Seminar中的报告进行介绍如下：
关键词
JSR公司
IMMERSION
曝光机
光刻胶
Top-coat材料
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
活跃于先端半导体制造技术开发的JSR株式会社
解红山
《集成电路应用》
2005
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