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真空热蒸发技术制备Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)/n-Si异质结深紫外光电探测器
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作者 贺顺立 孟宪令 +4 位作者 曹宁 夏斌 孙传隆 栾茹涵 张立春 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期274-282,共9页
利用真空热蒸发技术在硅衬底上制备了Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)薄膜,研究了生长温度对Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)薄膜的形貌、结晶质量和光学性能的影响,探究了成膜的最佳条件。薄膜表现出较强的深紫外吸收(270 nm)和明亮的蓝光发射(460 nm),薄膜的... 利用真空热蒸发技术在硅衬底上制备了Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)薄膜,研究了生长温度对Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)薄膜的形貌、结晶质量和光学性能的影响,探究了成膜的最佳条件。薄膜表现出较强的深紫外吸收(270 nm)和明亮的蓝光发射(460 nm),薄膜的光学带隙为4.31 eV。在此基础上,制备了Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)/n-Si异质结光电探测器。该器件表现出明显的深紫外(270 nm)光响应,响应度为0.47 mA·W^(-1),对应的探测率为2.09×10^(9)Jones。本工作为制备硅基Cs_(3)Cu_(2)Br_(5)薄膜和高性能铜基深紫外光电探测器提供了一种新的途径。 展开更多
关键词 Cs_(3)Cu_(2)Br_(5) 热蒸发 生长温度 深紫外 光电探测器
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