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等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究 被引量：9
1
作者 赵程 彭红瑞 +1 位作者 谢广文 李世直 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第5期366-369,共4页
为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处... 为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高 ,涂层的结晶度得到大幅度的改善 ,涂层内的杂质氯含量降低 ,涂层的 (2 0 0 )晶面距减小 ,但在 90 0℃时 ,PCVD 展开更多
关键词 TIN涂层 后热处理 PCVD 金属表面强化
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辅助外加热方式直流等离子体化学气相沉积TiN的研究
2
作者 谢雁 赵程 李世直 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第3期18-20,共3页
1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而言,由于影响离子轰击的因素 很多造成工艺参数控制复杂,重复性差,温度不均匀等缺点。90年代起本所开始采... 1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而言,由于影响离子轰击的因素 很多造成工艺参数控制复杂,重复性差,温度不均匀等缺点。90年代起本所开始采用了辅助外加热方式沉积技术,改变了单纯依靠离子轰击加热而带来了弊端。将反应时等离子体放电强度与放电工件温度分离,从而提高了工艺的稳定性。 展开更多
关键词 氮化钛 直流等离子体 化学气相沉积 喷镀
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等离子体金属有机物化学气相沉积碳氮化钛 被引量：3
3
作者 石玉龙 彭红瑞 李世直 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第5期4-5,共2页
叙述了采用金属有机物钛酸四乙脂取代四氯化钛,运用PCVD外加热法沉积Ti(CN)涂层,其显微硬度可达1600kg/mm^2,涂层结构仍为柱状晶.
关键词 等离子体 金属有机物 碳氮化钛 化学气相沉积
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等离子体化学气相沉积反应中对温度因素的控制 被引量：1
4
作者 谢雁 赵程 +1 位作者 彭红瑞 李世直 《表面工程》 CSCD 1996年第4期26-28,共3页
采用了外加热式直流等离子体化学气相沉积及渗金属工艺并在放电工件上直接测温的方法，克服了高于轰击加热引起的温度不均匀等因素并且膜的结构及力学性能得以改善。
关键词 等离子体 化学气相沉积 放电 外加热 测温 离子轰击
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微过滤及超过滤技术在化学镀镍工艺中的应用研究
5
作者 谢广文 彭红瑞 +1 位作者 石玉龙 赵程 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期1-2,共2页
实验表明在以工业级药品为原料的化学镀镍工艺中应用微过滤或超过滤技术 ,可显著地改善镀层的耐蚀性 ,其效果可与以试剂级药品为原料的化学镀镍层媲美。
关键词 微过滤 超滤 化学镀镍 耐蚀性 应用 镀层
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等离子化学气相沉积氮化钛在高速钢精密轴承上的应用
6
作者 石玉龙 彭红瑞 +1 位作者 李世直 李建华 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1997年第5期355-358,共4页
报道了等离子化学气相沉积氮化钛工艺在高速钢精密轴承上的应用。试验结果证明，PCVD－TiN具有良好的表面复形能力和良好的绕镀性。该镀层在200～400℃大气中具有良好的耐蚀和抗热震性能。它可用于高速钢精密轴承等加工精度高的工件的... 报道了等离子化学气相沉积氮化钛工艺在高速钢精密轴承上的应用。试验结果证明，PCVD－TiN具有良好的表面复形能力和良好的绕镀性。该镀层在200～400℃大气中具有良好的耐蚀和抗热震性能。它可用于高速钢精密轴承等加工精度高的工件的表面处理。 展开更多
关键词 PCVD 氮化钛 高速钢 精密轴承
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MOPCVD制备Ti(CN)硬膜研究 被引量：9
7
作者 石玉龙 彭红瑞 李世直 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第1期60-62,共3页
采用金属有机物四异丙基钛 (Ti[OC3 H7]4 )为钛源 ,在辅助加热PCVD设备上进行沉积Ti(CN)涂层研究。并对涂层进行了显微硬度测量、扫描电镜观察和X射线衍射分析。结果表明 ,此法制备的Ti(CN)涂层其显微硬度可达 15 6 80N/mm2 。Ti(CN)涂... 采用金属有机物四异丙基钛 (Ti[OC3 H7]4 )为钛源 ,在辅助加热PCVD设备上进行沉积Ti(CN)涂层研究。并对涂层进行了显微硬度测量、扫描电镜观察和X射线衍射分析。结果表明 ,此法制备的Ti(CN)涂层其显微硬度可达 15 6 80N/mm2 。Ti(CN)涂层仍为柱状晶结构 ,Ti(CN)晶体的d(2 0 0 )值随着炉温和氢、氮比的变化而变化。切削实验证明 ,6mm高速钢钻头经MOPCVD Ti(CN)涂镀后提高使用寿命 7 3倍 ;经MOPCVD Ti(CN)涂镀的6 5mm×2 2mm× 5mm直齿三面刃铣刀使用寿命是非涂镀的 8倍。 展开更多
关键词 PCVD技术 硬膜技术 四异丙基钛 碳氮化钛
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PCVD-Ti(CNO)薄膜的制备及性能的研究 被引量：1
8
作者 彭红瑞 石玉龙 +2 位作者 谢雁 李世直 赵程 《表面技术》 EI CAS CSCD 1998年第5期11-13,共3页
研究了Ti(CN)薄膜内氧的作用.研究结果表明,Ti(CN)薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断口呈致密的纤维状组织.随着反应气体中空气或CO_2气体流量的增加,Ti(CNO)薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为40ml/min或CO_2的流量... 研究了Ti(CN)薄膜内氧的作用.研究结果表明,Ti(CN)薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断口呈致密的纤维状组织.随着反应气体中空气或CO_2气体流量的增加,Ti(CNO)薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为40ml/min或CO_2的流量为15ml/min时(分别约占总量的15%和6%)、薄膜的硬度达到最大值. 展开更多
关键词 PCVD 薄膜 等离子体沉积 钛 金属 涂层
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Si对TiSiN膜组成结构的影响 被引量：4
9
作者 石玉龙 彭红瑞 李世直 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期66-67,共2页
报告了等离子化学气相沉积（PCVD）硬膜TiSiN中Si对膜的影响。沉积膜经过电子探针（EMPA）、扫描电镜（SEM）、X射线（XRD）和X光电子谱（XPS）分析。实验表明，在TiN的气相沉积中加入少量Si可以明显改善膜的结构和组成。
关键词 PCVD TiSiN膜 显微分析 硅 结构 组成
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RF-PCVD沉积参数对TiN沉积速率的影响
10
作者 谢雁 李世直 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第5期352-355,共4页
用射频等离子体沉积TiN膜，对影响薄膜生长的因素作了研究。特别是H2，N2，TiCl4及射频功率、偏压对膜生长速率的影响进行了报导。
关键词 氮化钛膜 沉积速率 射频功率
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