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集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究被引量：18: 1; 作者何金江吕保国 +4 位作者贾倩丁照崇刘书芹罗俊锋王兴权《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2023年第1期79-87,共9页; 高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料,对实现集成电路用靶材的全面自主可控,推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文分析了集成电路用高纯金属溅射靶材的应用需求,梳理了相应高纯金属溅射靶材的研制现状,涵盖高纯铝及铝... 展开更多; 关键词高纯金属溅射靶材集成电路薄膜金属化; 在线阅读下载PDF 职称材料

面向新兴产业和未来产业的新材料发展战略研究被引量：19: 2; 作者赵鸿滨周旗钢 +2 位作者李志辉李腾飞屠海令《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2024年第1期23-34,共12页; 新材料是新兴产业和未来产业发展的根基,是抢占科技和经济发展制高点的重要领域,也是我国推进新型工业化的重要驱动力。本文梳理了新材料在信息、能源、生物、深空与深海探测等领域的发展趋势,发现新材料联用或与其他学科、领域的深度... 展开更多; 关键词新材料关键核心技术新兴产业未来产业新型工业化; 在线阅读下载PDF 职称材料

铂族金属回收进展概述: 3; 作者李恒付丰年 +3 位作者郝海英胡通江丹平高进昊《贵金属》北大核心 2025年第S1期120-125,共6页; 本文分析了我国铂族金属资源现状及回收情况。我国矿产资源有限,且工业催化剂和电子废料等二次资源的回收占比相对国外较低,因此发展回收技术和产业具有重要战略意义。当前国内外企业大规模应用的回收方法仍以火法和湿法为主,通过各个... 展开更多; 关键词铂族金属回收火法冶金湿法冶金; 在线阅读下载PDF 职称材料

我国半导体硅片发展现状与展望被引量：17: 4; 作者张果虎肖清华马飞《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2023年第1期68-78,共11页; 硅片是半导体关键的基础材料,我国半导体硅片对外依存度较高,增强硅片的自主保障能力,对提升我国半导体产业整体水平至关重要。本文重点围绕市场主流的8 in、12 in硅片,分析了全球半导体硅片的技术和产业发展现状,研判了全球半导体硅片... 展开更多; 关键词半导体硅片 8 in 12 in 产业协同先进制程; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究被引量：18: 1; 作者何金江吕保国贾倩丁照崇刘书芹罗俊锋王兴权; 机构有研亿金新材料有限公司集成电路关键材料国家工程研究中心中国有研科技集团有限公司; 出处《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2023年第1期79-87,共9页; 基金中国工程院咨询项目“我国先进有色金属材料发展战略研究”(2022-XZ-20)。; 文摘高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料,对实现集成电路用靶材的全面自主可控,推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文分析了集成电路用高纯金属溅射靶材的应用需求,梳理了相应高纯金属溅射靶材的研制现状,涵盖高纯铝及铝合金、高纯铜及铜合金、高纯钛、高纯钽、高纯钴和镍铂、高纯钨及钨合金等细分类别。在凝练我国高端靶材制备关键技术及工程化方面存在问题的基础上,着眼领域2030年发展目标,提出了集成电路用高纯金属溅射靶材产业的重点发展方向:提升材料制备技术水平,攻克高性能靶材制备关键技术,把握前沿需求开发高端新材料,提升材料分析检测和应用评价能力。研究建议,开展“产学研用”体系建设,解决关键设备国产化问题,加强人才队伍建设力度,掌握自主知识产权体系,拓展国际合作交流,以此提升高纯金属溅射靶材的发展质量和水平。; 关键词高纯金属溅射靶材集成电路薄膜金属化; Keywords high-purity metal sputtering target integrated circuit thin film metallization; 分类号 TG146 [金属学及工艺—金属材料] TN04 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名面向新兴产业和未来产业的新材料发展战略研究被引量：19: 2; 作者赵鸿滨周旗钢李志辉李腾飞屠海令; 机构中国有研科技集团有限公司智能传感功能材料国家重点实验室集成电路关键材料国家工程研究中心有色金属材料制备加工国家重点实验室有研(广东)新材料技术研究院; 出处《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2024年第1期23-34,共12页; 基金中国工程院咨询项目“‘四链’深度融合下我国战略性新兴产业高质量发展战略研究”(2023-PP-06)。; 文摘新材料是新兴产业和未来产业发展的根基,是抢占科技和经济发展制高点的重要领域,也是我国推进新型工业化的重要驱动力。本文梳理了新材料在信息、能源、生物、深空与深海探测等领域的发展趋势,发现新材料联用或与其他学科、领域的深度融合正在成为新材料发展的重要特点;系统分析了我国新材料产业在规模、技术创新能力、企业和集群等方面的发展现状,总结了新材料产业发展存在的关键原材料依赖进口、核心装备尚未实现自主可控、高端产品自给率不高、部分重点产品缺乏应用迭代、标准和评价体系不完善等问题;提出了面向新兴产业亟需发展的9个重点方向以及面向未来产业亟需布局的7个重要方向。为推动新材料产业的高质量发展,研究建议:着力筑牢新材料产业发展根基,扎实提升新材料产业链水平,营造良好的产业发展生态环境,完善产业发展配套政策。; 关键词新材料关键核心技术新兴产业未来产业新型工业化; Keywords new materials key core technologies emerging industries future industry new industrialization; 分类号 TB3 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名铂族金属回收进展概述: 3; 作者李恒付丰年郝海英胡通江丹平高进昊; 机构有研亿金新材料有限公司有研翠铂林(北京)科技有限公司集成电路关键材料国家工程研究中心; 出处《贵金属》北大核心 2025年第S1期120-125,共6页; 文摘本文分析了我国铂族金属资源现状及回收情况。我国矿产资源有限,且工业催化剂和电子废料等二次资源的回收占比相对国外较低,因此发展回收技术和产业具有重要战略意义。当前国内外企业大规模应用的回收方法仍以火法和湿法为主,通过各个环节应用新技术提高贵金属富集效率。随着技术进步,铂族金属回收呈多元化发展趋势,包括在传统方法基础上采用新型溶剂、绿色还原剂,以及生物冶金、膜分离等新技术。铂族金属富集液成分复杂,单一技术难以解决所有问题,因此创新研究应面向商业化需求和绿色低碳环保要求,推动新技术产业化。总体来看,铂族金属回收将更加注重系统技术整合与多环节优化,实现高效、可持续的资源利用。; 关键词铂族金属回收火法冶金湿法冶金; Keywords platinum group metals recycling pyrometallurgy hydrometallurgy; 分类号 TF83 [冶金工程—有色金属冶金]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名我国半导体硅片发展现状与展望被引量：17: 4; 作者张果虎肖清华马飞; 机构集成电路关键材料国家工程研究中心; 出处《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2023年第1期68-78,共11页; 基金中国工程院咨询项目“我国先进有色金属材料发展战略研究”(2022-XZ-20)。; 文摘硅片是半导体关键的基础材料,我国半导体硅片对外依存度较高,增强硅片的自主保障能力,对提升我国半导体产业整体水平至关重要。本文重点围绕市场主流的8 in、12 in硅片,分析了全球半导体硅片的技术和产业发展现状,研判了全球半导体硅片产业未来的发展趋势,重点分析了我国半导体硅片的发展现状,指出我国半导体硅片在当前市场需求、宏观政策、配套能力、研发投入等利好因素下迎来难得的发展机遇,同时提出我国半导体硅片产业发展面临挑战,在此基础上,从进一步加强顶层设计和宏观规划、强化政策落实和政策持续性、协调支持产业链协同发展、布局研发集成电路先进制程用半导体硅片等方面提出对策建议,以期为推动我国半导体硅片向更高质量发展提供参考。; 关键词半导体硅片 8 in 12 in 产业协同先进制程; Keywords semiconductor silicon wafer 8 inches 12 inches industry synergy advanced processing; 分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究	何金江吕保国贾倩丁照崇刘书芹罗俊锋王兴权	《中国工程科学》 CSCD 北大核心	2023	18	在线阅读下载PDF 职称材料
2	面向新兴产业和未来产业的新材料发展战略研究	赵鸿滨周旗钢李志辉李腾飞屠海令	《中国工程科学》 CSCD 北大核心	2024	19	在线阅读下载PDF 职称材料
3	铂族金属回收进展概述	李恒付丰年郝海英胡通江丹平高进昊	《贵金属》北大核心	2025	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	我国半导体硅片发展现状与展望	张果虎肖清华马飞	《中国工程科学》 CSCD 北大核心	2023	17	在线阅读下载PDF 职称材料