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LiF作为电子注入层对OLEDs器件性能的影响(英文) 被引量：4
1
作者 李志贤 张方辉 +1 位作者 赵彦钊 王秀峰 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期52-57,共6页
制造了两种OLEDs器件,它们的结构分别为:ITO/NPB(50nm)/Alq3(65nm)/Mg∶Ag(10∶1)(100nm)/Ag(50nm)andITO/NPB(50nm)/Alq3(65nm)/LiF(x)/Al(100nm)。结果发现,在同样电压下,与Mg∶Ag/Ag电极相比,插入LiF层可以明显提高器件的电流。当Li... 制造了两种OLEDs器件,它们的结构分别为:ITO/NPB(50nm)/Alq3(65nm)/Mg∶Ag(10∶1)(100nm)/Ag(50nm)andITO/NPB(50nm)/Alq3(65nm)/LiF(x)/Al(100nm)。结果发现,在同样电压下,与Mg∶Ag/Ag电极相比,插入LiF层可以明显提高器件的电流。当LiF厚度为1nm时,器件性能最好。以Mg∶Ag/Ag合金作为电极时的器件的最大亮度为8450cd/m2,而插入LiF层的器件最大亮度可达到14700cd/m2。此外,器件的发光效率也得到了明显的提高,在7V时达到了最大为3.117cd/mA。同时,当LiF厚度大于1nm或小于1nm时,器件性能都将会下降。 展开更多
关键词 OLEDS LiF厚度 电子注入层
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全交流复卷机电气控制系统的分析与设计 被引量：3
2
作者 孟彦京 肖中俊 +1 位作者 高承雍 刘毓 《中国造纸》 CAS 北大核心 2005年第9期42-45,共4页
论述了复卷机电气控制采用交流变频的传动方式,以专用变频器为执行单元控制交流异步机,摒弃传统的直流传动调速方式,解决了张力恒定要求下退纸辊大范围调速的技术难题,达到了较高的性能价格比。
关键词 复卷机 交流传动 直流传动 张力恒定
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表面传导电子发射显示技术进展 被引量：4
3
作者 牟强 张方辉 费民权 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期226-231,共6页
表面传导显示技术是结合了电子发射技术、微制造技术、CRT技术、大规模液晶显示器生产技术及半导体技术而研发出的新型平板显示技术。表面传导显示器除具有高亮度和高清晰度特性之外,还具有良好的频率响应特性、高对比度、高灰度级和低... 表面传导显示技术是结合了电子发射技术、微制造技术、CRT技术、大规模液晶显示器生产技术及半导体技术而研发出的新型平板显示技术。表面传导显示器除具有高亮度和高清晰度特性之外,还具有良好的频率响应特性、高对比度、高灰度级和低功耗等。本文对表面传导技术的诞生及发展进行了介绍,阐述了表面传导显示技术的显示机理及制作工艺,并就其发展前景和制约因素进行了分析。 展开更多
关键词 表面传导显示器 显示机理 发展前景 制约因素
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基于嵌入式S3C44B0X家庭智能电子助手系统的设计 被引量：1
4
作者 郭国法 孟彦京 +1 位作者 张开生 张攀峰 《现代电子技术》 2005年第20期114-115,共2页
介绍基于嵌入式S3C 44B 0X设计家庭智能电子助手系统的思路,对系统构成图和硬件模块做了简单的描述。
关键词 嵌入式系统 系统构成 硬件模块 S3C44B0X
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表面传导电子发射显示器件电学特性研究 被引量：1
5
作者 李新贝 张方辉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期527-532,共6页
利用平板电容器和电磁场理论对表面传导电子发射显示器件的单个子像素在笛卡尔坐标系内建立合适的电学物理模型,并对其内部电场强度和电势进行了深入研究,推导出了模型不同部分的面电荷密度、电场强度和电势的具体表达式;为了形象地表... 利用平板电容器和电磁场理论对表面传导电子发射显示器件的单个子像素在笛卡尔坐标系内建立合适的电学物理模型,并对其内部电场强度和电势进行了深入研究,推导出了模型不同部分的面电荷密度、电场强度和电势的具体表达式;为了形象地表征其电学特性,利用MATLAB6.5对电场强度和电势的分布情况进行了模拟,从理论上对模拟曲面给出了合理的解释,分析了子像素内部电子的发射机理和电学行为;最终理论计算和软件模拟印证了所建物理模型在误差允许的范围内是完全正确的。 展开更多
关键词 表面传导电子发射显示 物理模型 面电荷密度 电场强度
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基于蒙特-卡罗法的电子电路统计分析仿真 被引量：4
6
作者 李慧贞 《航空电子技术》 2005年第2期33-37,共5页
电子电路的统计分析在电子产品批量生产前对产品元器件容差的选取、产品成品率和生产成本预测上有很好的指导意义。蒙特-卡罗分析方法是电子电路常用的统计方法之一,采用计算机模拟的蒙特-卡罗法通过对电子电路的性能统计试验来求得其... 电子电路的统计分析在电子产品批量生产前对产品元器件容差的选取、产品成品率和生产成本预测上有很好的指导意义。蒙特-卡罗分析方法是电子电路常用的统计方法之一,采用计算机模拟的蒙特-卡罗法通过对电子电路的性能统计试验来求得其性能的期望值、标准差等统计参数,并能从进一步求得的直方图上预测该性能处于技术指标允许范围之内的产品合格率。通过统计分析结果可以选取可靠性高、成本低的设计方案,以实现电子电路的优化设计。本文以滤波器为例说明在OrCAD/PSpice9环境下进行电路统计分析的方法和应用。 展开更多
关键词 电子电路 统计分析仿真 蒙特-卡罗法 OrCAD/PSpice9 直方图
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基于嵌入式S3C44B0X的家庭智能电子助手系统的设计
7
作者 张开生 郭国法 张攀峰 《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2005年第4期67-69,共3页
介绍了基于嵌入式S344B0X设计家庭智能电子助手系统的思路,从家庭安全防卫、家用三表自动抄表、家电自动控制以及数据智能通讯等方面对系统构成图和硬件模块作了简捷的描述,该嵌入式系统在实现家庭智能化方面将得到很好的应用。
关键词 嵌入式系统 系统构成 硬件模块 家庭智能化
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ROLAND四色/双色胶印机的主传动电气改造
8
作者 康家玉 米林安 赵艳 《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2006年第1期73-75,共3页
在保持原操作习惯、原操作功能、原有各方面连锁保护及安全措施的条件下,采用全数字直流调速装置对ROLAND四色/双色胶印机的主传动进行了电气改造,改造后的机台主传动故障率极低,维护量小,运行稳定。
关键词 全数字直流调速装置 主传动 电气改造
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PROFIBUS-DP现场总线的复卷机电气控制
9
作者 李天利 《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2006年第5期85-87,共3页
PRIFIBUS-DP现场总线具有数据传输速率高、可靠性强、接线简单和易于维护等优点。作者在文中以4400/1800复卷机为例介绍了PROFIBUS-DP现场总线在复卷机控制中的应用,就系统组网、控制、总线的抗干扰等问题进行了讨论。
关键词 PROFIBUS-DP现场总线 复卷机 电气控制
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ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究 被引量：20
10
作者 马颖 张方辉 +2 位作者 靳宝安 牟强 袁桃利 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第5期376-379,共4页
以氯化铟和氯化锡为前驱物,采用溶胶 凝胶法在玻璃基片上制备了ITO薄膜。研究了掺锡浓度、热处理温度和热处理时间等工艺条件对ITO薄膜光电特性的影响。制备的ITO薄膜的方阻为300Ω/□,可见光平均透过率为80%,电阻率为4×10-3Ω... 以氯化铟和氯化锡为前驱物,采用溶胶 凝胶法在玻璃基片上制备了ITO薄膜。研究了掺锡浓度、热处理温度和热处理时间等工艺条件对ITO薄膜光电特性的影响。制备的ITO薄膜的方阻为300Ω/□,可见光平均透过率为80%,电阻率为4×10-3Ω·cm,其光电特性已达到了TN LCD透明电极的要求。 展开更多
关键词 ITO薄膜 溶胶-凝胶法 透光率 液晶显示器 热处理 光电特性
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ITO玻璃光刻工艺的研究 被引量：14
11
作者 张麦丽 王秀峰 +1 位作者 牟强 张方辉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期22-26,共5页
将光刻胶涂敷在带有 ITO薄膜的玻璃表面上,利用紫外光对其进行光刻,通过金相显微镜观察刻蚀后的 ITO表面形貌,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响,得到最佳清洗工艺为:洗涤剂棉球擦洗,然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次,烘... 将光刻胶涂敷在带有 ITO薄膜的玻璃表面上,利用紫外光对其进行光刻,通过金相显微镜观察刻蚀后的 ITO表面形貌,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响,得到最佳清洗工艺为:洗涤剂棉球擦洗,然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次,烘干;对于正性光刻胶RZJ 390PG,最佳实验效果的曝光时间为5 min;最佳显影时间为 2 min;最佳刻蚀时间为6 min,为OLED得到精细阳极奠定了基础。 展开更多
关键词 ITO 光刻 曝光时间 显影时间 刻蚀时间
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基于Trace-Pro软件的LCD导光板网点分布仿真与研究 被引量：13
12
作者 史永胜 魏文君 王秀峰 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期463-467,共5页
针对目前背光模组的均匀度差和亮度低的问题,利用Trace-Pro光学仿真软件对印刷式导光板的网点分布进行模拟分析,着重提高光输出的均匀度。采取分块优化来简化设计,通过与网点面积密度比的关联,利用网点密度比、网点半径和间距三者的关系... 针对目前背光模组的均匀度差和亮度低的问题,利用Trace-Pro光学仿真软件对印刷式导光板的网点分布进行模拟分析,着重提高光输出的均匀度。采取分块优化来简化设计,通过与网点面积密度比的关联,利用网点密度比、网点半径和间距三者的关系,进行相互转化,拟合出间距的整体性最佳化曲线,从而避免了重复建模和光线追迹。通过这种网点设计方法获得了高照度下均匀度大于90%的导光板的网点分布。将优化结果与实际导光板尺寸比较对比可知,间距平均值偏差1.6μm以下,半径平均值偏差±2.7μm以下。实验结果与计算分析结果吻合得较好,对实际生产有一定的指导意义。 展开更多
关键词 背光模组 导光板 网点分布 最佳化设计
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混沌同步自保持特性在保密通信中的应用研究 被引量：9
13
作者 兀旦晖 李强华 宋玲芳 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期511-515,共5页
给出了一种便于集成的改进型Chua电路,构造出一种具有一定鲁棒性、抗干扰等特性的驱动-响应式混沌同步系统,研究发现此混沌同步系统具有自保持特性,并给出研究结果。利用此特性,解决了目前如何同时在同一信道中传输混沌同步控制信号和... 给出了一种便于集成的改进型Chua电路,构造出一种具有一定鲁棒性、抗干扰等特性的驱动-响应式混沌同步系统,研究发现此混沌同步系统具有自保持特性,并给出研究结果。利用此特性,解决了目前如何同时在同一信道中传输混沌同步控制信号和密文信号的关键性问题,实验证明了此方法的可行性,为混沌在保密通信的实际应用奠定了基础。 展开更多
关键词 量子光学 保密通信 分时发送 CHUA电路 混沌同步 混沌同步自保持
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等离子增强型化学气相沉积条件对氮化硅薄膜性能的影响 被引量：17
14
作者 李新贝 张方辉 牟强 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期12-16,共5页
等离子增强型化学气相沉积(PECVD)氮化硅技术是目前半导体器件在合金化后低温生长氮化硅的唯一方法。研究了由进口PECVD设备制备的氮化硅薄膜性质与沉积条件的关系,测定了生成膜的各种物理化学性能,详细探讨了各种沉积参数对薄膜性能的... 等离子增强型化学气相沉积(PECVD)氮化硅技术是目前半导体器件在合金化后低温生长氮化硅的唯一方法。研究了由进口PECVD设备制备的氮化硅薄膜性质与沉积条件的关系,测定了生成膜的各种物理化学性能,详细探讨了各种沉积参数对薄膜性能的影响,提出了沉积优质氮化硅薄膜的工艺条件。 展开更多
关键词 等离子增强型化学气相沉积 氮化硅 薄膜性能
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超宽带传输参考接收机的性能研究 被引量：12
15
作者 杨刚 亢洁 施仁 《通信学报》 EI CSCD 北大核心 2005年第10期122-127,共6页
分析了超宽带传输参考(TR)接收机的原理和优势,针对UWB通信应用在多个比特传输中信道基本不变的特点,将TR信号集合扩展为一帧几个参考信号和多个数据信号,提出了一种改进TR接收机。文中对基本TR接收机和改进TR接收机的性能进行了理论分... 分析了超宽带传输参考(TR)接收机的原理和优势,针对UWB通信应用在多个比特传输中信道基本不变的特点,将TR信号集合扩展为一帧几个参考信号和多个数据信号,提出了一种改进TR接收机。文中对基本TR接收机和改进TR接收机的性能进行了理论分析,并采用IEEE的CM1、CM2多径信道模型进行了性能仿真,结果表明,综合考虑性能、传输效率和成本,改进TR接收机优于基本TR接收机。 展开更多
关键词 超宽带(UWB)无线通信 传输参考(TR)接收机 误码率分析 数据传输效率 多径信道仿真
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VB与S7-200PLC在单网流浆箱控制系统中的应用 被引量：4
16
作者 薛会建 王孟效 +1 位作者 朱丹波 赵凯坤 《中国造纸学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期99-104,共6页
介绍了在气垫式流浆箱控制系统中应用西门子PLCS7- 2 0 0和VB作控制系统的软件编程和组态工具 ,并且阐述了总压和浆位的解耦控制算法 ,介绍了上位机与S7- 2 0 0的自由通讯程序 ,系统在实际应用中得到检验 ,运行良好。
关键词 VB 通讯程序 S7-200 控制系统 上位机 PLC 组态 气垫式流浆箱 总压 工具
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基于西门子S7-300的干燥部DCS应用一例 被引量：9
17
作者 朱丹波 孙瑜 +1 位作者 薛会建 王孟效 《中华纸业》 CAS 北大核心 2005年第7期60-62,共3页
介绍了西门子S7-300在造纸车间干燥部DCS的应用,主要包括网络结构、硬件组成、控制系统及专家算法。该系统实现了整个干燥部的自动控制,并降低能耗。
关键词 干燥部 S7-300 DCS 西门子 应用 造纸车间 网络结构 硬件组成 控制系统 自动控制 系统实现 降低能耗
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TFT-LCD切割裂片工艺参数探讨 被引量：32
18
作者 李亚利 张方辉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期43-47,共5页
研究了TFT—LCD切割裂片的原理，以及刀轮角度、切割压力、下压量等工艺参数对切割质量的影响。采用120°和130°两种不同角度的刀轮在切割速度300mm／s、刀轮下压量0．14mm的条件下进行切割，发现120°刀轮的切割深度比130... 研究了TFT—LCD切割裂片的原理，以及刀轮角度、切割压力、下压量等工艺参数对切割质量的影响。采用120°和130°两种不同角度的刀轮在切割速度300mm／s、刀轮下压量0．14mm的条件下进行切割，发现120°刀轮的切割深度比130°刀轮的要大5～10μm；当切割压力一定时，切割深度随下压量的增加而增加。在同样条件下，120°刀轮在切割压力为0．18MPa时出现横向微裂纹，130°刀轮在0．28MPa的切割压力下出现横向裂纹；可见刀轮角度越小，越容易出现横向裂纹。实验结果表明，压力是影响横向微裂纹产生的主要因素，而刀轮下压量对横向裂纹的产生没有太大影响。 展开更多
关键词 TFT-LCD 刀轮角度 下压量 切割压力
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X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响 被引量：8
19
作者 马颖 韩薇 张方辉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期314-317,共4页
采用溶胶-凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜,对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析。研究表明热处理温度对ITO膜的衍射峰相对强度、晶粒尺寸和晶格常数有较大的影响,随着热处理温度的增加,ITO膜随机取向增加,晶... 采用溶胶-凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜,对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析。研究表明热处理温度对ITO膜的衍射峰相对强度、晶粒尺寸和晶格常数有较大的影响,随着热处理温度的增加,ITO膜随机取向增加,晶粒增大,晶格常数在400℃时畸变最小。热处理温度为450℃时ITO膜的择优取向较弱,晶粒较大,晶格畸变较小,ITO膜的方阻最小。 展开更多
关键词 ITO膜 热处理温度 X射线衍射分析 溶胶-凝胶法
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掺杂型红色有机电致发光显示器件 被引量：7
20
作者 李新贝 张方辉 张麦丽 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期689-694,共6页
摘要:全色显示是有机电致发光显示(OLED)器件发展的目标,而高性能红色发光器件一直是制约全彩色OLED器件实用化的瓶颈,也是目前有机电致发光显示研究的热点。制作了掺杂DCJTB和不同浓度的rubrene两种荧光染料的红色有机电致发光显示器件... 摘要:全色显示是有机电致发光显示(OLED)器件发展的目标,而高性能红色发光器件一直是制约全彩色OLED器件实用化的瓶颈,也是目前有机电致发光显示研究的热点。制作了掺杂DCJTB和不同浓度的rubrene两种荧光染料的红色有机电致发光显示器件,以NPB和Alq3分别作为空穴传输层和电子传输层,发现器件性能与只掺杂DCJTB的器件相比有明显提高,发光效率提高到2 ～3倍。通过F rster理论和能带理论分析了器件的能量转移机理,研究发现F rster能量转移不是掺杂器件能量转移的主要形式,载流子俘获机制才是器件效率提高的主要原因;rubrene的引入使得能量能够更有效地从Alq3转移到DCJTB,从而显著地提高了器件的发光效率和性能。 展开更多
关键词 有机电致发光 能量转移 Forster理论 载流子俘获
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