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打浆过程控制的新进展 被引量:7
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作者 汤伟 罗斌 +1 位作者 周红 王孟效 《中国造纸学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期122-129,共8页
全面介绍了打浆过程机理模型、打浆过程动态建模、成浆质量软测量技术、打浆过程在线检测仪表,以及打浆过程控制方案及算法的研究进展与应用现状,讨论了亟待解决的关键技术和对策,指出了努力方向及发展趋势。
关键词 打浆过程 动态建模 软测量 优化控制
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硫与铋比例对水热合成Bi_2S_3粉体形貌的影响 被引量:2
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作者 刘运 谈国强 朱刚强 《陕西科技大学学报(自然科学版)》 2010年第2期40-44,共5页
以硝酸铋(Bi(NO3)3)和硫化钠(Na2S)为原料,采用水热法制备了Bi2S3纳米粉体,通过X-射线粉末衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电镜(HRTEM)对其结构和形貌进行了表征,并研究了硫与铋... 以硝酸铋(Bi(NO3)3)和硫化钠(Na2S)为原料,采用水热法制备了Bi2S3纳米粉体,通过X-射线粉末衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电镜(HRTEM)对其结构和形貌进行了表征,并研究了硫与铋的比例和反应温度对Bi2S3纳米结构形貌和尺寸的影响.结果表明,所制备的粉体均为纯净正交相Bi2S3;随着硫与铋的比例增大,产物的长度和直径都增大;紫外-可见光吸收光谱测量表明,所有粉体的吸收谱相对于正交相Bi2S3块体都出现了蓝移. 展开更多
关键词 水热合成 纳米管 硫化铋
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利用导电性测试检测PLED器件功能层的稳定性
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作者 张方辉 李志贤 +2 位作者 赵彦钊 张麦丽 丁兴隆 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期205-208,共4页
在25℃、相对湿度50%的条件下,分别在玻璃上旋涂了PEDOT∶PSS,MEH-PPV薄膜,蒸镀了Al薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,PEDOT∶PSS需100s,吸水过程就基本完成,电阻变化率约为66.5%;MEH-PPV薄膜需13.6min吸收水、氧的过程... 在25℃、相对湿度50%的条件下,分别在玻璃上旋涂了PEDOT∶PSS,MEH-PPV薄膜,蒸镀了Al薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,PEDOT∶PSS需100s,吸水过程就基本完成,电阻变化率约为66.5%;MEH-PPV薄膜需13.6min吸收水、氧的过程基本完成,电阻变化率为245.5%;Al薄膜仅需50s,和空气中的水、氧的反应已基本完成,其电阻变化率为24.9%,在较短时间内,它们的电阻就发生了迅速的变化。其原因为它们吸收了空气中的水蒸气或者与空气中的水、氧气等发生反应,使其电性能发生了变化。由此得出结论,在PLED器件的功能层制备过程中或者在器件的封装过程中,防止空气中的水、氧气对器件的侵蚀是非常重要的。 展开更多
关键词 电阻率 稳定性 PEDOT:PSS MEH—PPV
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薄膜Se对薄膜Al电极的防护作用探讨
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作者 李志贤 赵彦钊 张方辉 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1271-1273,1277,共4页
本文在25℃、相对湿度50%的条件下,分别蒸镀了Al,Al/Se薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,只需50s,Al薄膜的氧化反应已基本完成,其电阻率变化率为24.9%;大约需要2min,Al/Se薄膜电阻变化率为4.5%,随后其电阻基本处于稳定... 本文在25℃、相对湿度50%的条件下,分别蒸镀了Al,Al/Se薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,只需50s,Al薄膜的氧化反应已基本完成,其电阻率变化率为24.9%;大约需要2min,Al/Se薄膜电阻变化率为4.5%,随后其电阻基本处于稳定状态。这主要是因为薄膜边沿和镀Se薄膜时形成的针孔的铝膜首先被氧化,使电阻增加。形成的Al2O3薄膜阻止了反应的继续进行,电阻不再变化。 展开更多
关键词 电阻变化率 稳定性 Al薄膜 Al/Se薄膜
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气垫式流浆箱控制方法研究与改进 被引量:1
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作者 田文涛 郑恩让 《中国造纸学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期80-82,共3页
采用无模型控制器对气垫式流浆箱解耦,解耦效果十分明显,无模型控制算法简单易于编写,在中小型PLC上均可实现。在实践应用中,系统稳定,效果显著。
关键词 气垫式流浆箱 解耦 无模型控制器
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