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脉冲电镀对铜层空隙率的改善
被引量：
6
1
作者
王双民
《腐蚀与防护》
CAS
北大核心
2005年第3期123-123,共1页
采用脉冲镀铜,铜镀层的空隙率有显著的改善,对其原理作了初步探讨。
关键词
脉冲电镀
空隙率
晶核
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
脉冲电镀对铜层空隙率的改善
被引量：
6
1
作者
王双民
机构
陕西燎原航空机械制造公司特种工艺厂
出处
《腐蚀与防护》
CAS
北大核心
2005年第3期123-123,共1页
文摘
采用脉冲镀铜,铜镀层的空隙率有显著的改善,对其原理作了初步探讨。
关键词
脉冲电镀
空隙率
晶核
Keywords
Pulse plating
Porosity
Crystal nucleus
分类号
TQ153.14 [化学工程—电化学工业]
在线阅读
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题名
作者
出处
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1
脉冲电镀对铜层空隙率的改善
王双民
《腐蚀与防护》
CAS
北大核心
2005
6
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