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磁流变抛光液的研制
被引量：
7
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作者
张峰
潘守甫
+4 位作者
张学军
张忠玉
郑立功
程灏波
牛海燕
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期490-491,494,共3页
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大...
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大于 2 0kPa ,该应力足以完成磁流变抛光。最后给出一个磁流变抛光的实例 ,证明了磁流变抛光液的实用性。实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为 0 .2 μm s。
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关键词
磁流变抛光
磁流变抛光液
剪切应力
抛光区
材料去除率
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职称材料
题名
磁流变抛光液的研制
被引量：
7
1
作者
张峰
潘守甫
张学军
张忠玉
郑立功
程灏波
牛海燕
机构
吉林大学原子分子
物理
研究所
长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期490-491,494,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目 (60 1 0 80 0 3)
文摘
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大于 2 0kPa ,该应力足以完成磁流变抛光。最后给出一个磁流变抛光的实例 ,证明了磁流变抛光液的实用性。实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为 0 .2 μm s。
关键词
磁流变抛光
磁流变抛光液
剪切应力
抛光区
材料去除率
Keywords
magnetorheological finishing
magnetorheological polishing fluid
shear stress
polishing spot
material removal rate
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
TB381 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁流变抛光液的研制
张峰
潘守甫
张学军
张忠玉
郑立功
程灏波
牛海燕
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
7
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