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研磨抛光表面微孔织构的形成 被引量:12
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作者 郑锦华 吴双 +2 位作者 魏新煦 王俊杰 许璐 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期788-795,共8页
由于表面织构可以改善机械零部件的摩擦磨损特性,延长其使用寿命,本文基于研磨抛光方法开发了一种表面微孔快速成型技术。该技术的特点是微孔成型过程与抛光过程同步进行。选取载荷为0.023 2 MPa、研磨液浓度为9%、研磨速度为2.09m/s以... 由于表面织构可以改善机械零部件的摩擦磨损特性,延长其使用寿命,本文基于研磨抛光方法开发了一种表面微孔快速成型技术。该技术的特点是微孔成型过程与抛光过程同步进行。选取载荷为0.023 2 MPa、研磨液浓度为9%、研磨速度为2.09m/s以及研磨粒径为0.5μm作为考察条件,研究了微孔在金属表面的形成机理,证明了表面微孔是由于研磨颗粒在表面预制微缺陷处做涡旋运动,同时工件的自转使研磨颗粒在360°方向上依次磨削微缺陷壁面而形成的。利用该技术所形成的微孔周边为圆弧过度,无其他织构技术所形成的凸起和毛刺,因此无需进行抛光后处理。利用该方法在一定的织构条件下可以形成次生孔,从而进一步增加工件的比表面积。另外,选取合适的研磨时间在适当的织构条件还可以在工件表面形成微米及亚微米孔,为减少类金刚石(DLC)薄膜内应力和提高界面结合强度提供了新的思路。研究显示研磨抛光表面微孔织构技术具有设备简单、效率高、适合大面积,多种材料织构等特点。 展开更多
关键词 表面织构 研磨抛光 微孔成型 表面形貌 次生孔
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研磨抛光表面微孔织构的影响因素分析 被引量:2
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作者 吴双 郑锦华 +2 位作者 王俊杰 魏新煦 许璐 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期451-457,共7页
表面织构是一种改善摩擦学性能的有效手段.通过研磨抛光方法开发了一种新型表面织构技术,此表面织构的特点是表面微孔成型和抛光过程同步进行.同时利用此织构技术着重研究了研磨时间(0~120 min)、研磨速度(1.45~10.47 m/s)、研磨... 表面织构是一种改善摩擦学性能的有效手段.通过研磨抛光方法开发了一种新型表面织构技术,此表面织构的特点是表面微孔成型和抛光过程同步进行.同时利用此织构技术着重研究了研磨时间(0~120 min)、研磨速度(1.45~10.47 m/s)、研磨液质量分数(1%~15%)对织构参数(微孔面积密度、孔径分布及表面粗糙度)的影响规律.结果表明:表面微孔面积密度随着研磨时间增长而逐渐下降并最终趋于稳定;当研磨速度从1.45~10.47 m/s变化时,微孔面积密度从2.59%增至16.92%,微孔孔径及表面粗糙度随着研磨速度的增加而增加,当研磨速度低于2.09 m/s时容易获得10μm以下的微孔;当研磨液质量分数从1%~15%变化时,微孔面积密度从3.76%~11.70%变化,近似呈线性增加关系,质量分数高于9%时易于获得10μm以上孔径的分布表面. 展开更多
关键词 表面织构 摩擦学性能 面积密度 微孔形貌 研磨速度 研磨液质量分数
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工件位置对薄膜沉积速率的影响
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作者 郑锦华 许璐 +1 位作者 范忠雷 马新灵 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期1030-1035,共6页
研究发现在实际的DLC薄膜沉积过程中,薄膜的沉积速率与工件所处的位置有关,在同一装置内沿轴向取30 mm为间隔放置工件进行薄膜沉积,沉积一小时后三个工件表面薄膜沉积厚度依次为2.4μm、2.1μm、1.8μm。通过有限元模拟软件Ansys对这种... 研究发现在实际的DLC薄膜沉积过程中,薄膜的沉积速率与工件所处的位置有关,在同一装置内沿轴向取30 mm为间隔放置工件进行薄膜沉积,沉积一小时后三个工件表面薄膜沉积厚度依次为2.4μm、2.1μm、1.8μm。通过有限元模拟软件Ansys对这种现象进行了分析,沉积装置内部气体的压强和气体质量分数分布变化不大,而装置不同位置处工件表面气体流速和气体密度有明显的变化,三个工件表面气体流速依次为0.072~0.103 m/s,0.089~0.121 m/s,0.114~0.148 m/s,气体密度为6.37e^(-5)kg/m3,5.81e^(-5)kg/m3,5.18e^(-5)kg/m3。因此,在沉积过程中,不同位置处的薄膜沉积速率的主要影响因素是气体流速和气体密度。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 薄膜沉积厚度 ANSYS 气体密度 气体流速
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