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负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响
被引量：
5
1
作者
郑锦华
刘青云
李志雄
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第4期411-420,共10页
为了解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度问题,本研究采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术,以等时长、不同偏压条件在45钢基材上沉积复合DLC薄膜。采用扫描电镜、原子力显微镜观察薄膜形貌;采用拉曼光谱仪分...
为了解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度问题,本研究采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术,以等时长、不同偏压条件在45钢基材上沉积复合DLC薄膜。采用扫描电镜、原子力显微镜观察薄膜形貌;采用拉曼光谱仪分析薄膜成分;采用涂层附着力自动划痕仪测定膜基结合强度。结果表明:制备偏压从-600 V~-1200 V变化时,复合DLC薄膜表面粗糙度增大,薄膜总厚度增加,总膜厚最大为16.3μm;氢含量降低,石墨相对含量增加,过渡层DLC与顶层DLC膜间的结构成分差异减小。在等时长沉积条件下,随着制备负偏压的增加,复合DLC薄膜残余应力增大,结合力减小,结合力最大为54.5 N左右。顶层DLC膜制备偏压为-600 V~-800 V时综合性能较优。
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关键词
DC-PECVD
负偏压
H-DLC
多峰拟合
结合力
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职称材料
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
被引量：
1
2
作者
郑锦华
梅诗阳
+1 位作者
李志雄
刘青云
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第18期2627-2635,共9页
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场...
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场时沉积的薄膜进行了对比。结果表明:薄膜膜厚、表面粗糙度、液滴沉积尺寸及数量随着靶基距增大而减小;相较于无磁场样品,有磁场样品的表面粗糙度更小,曲率半径更大,结合力得到了提高。有磁场时界面结合力约为60 N,且随着靶基距变化不大,而无磁场时结合力变化较大。两者在同条件下对比,结合力提高了20%~80%不等;薄膜摩擦系数与磨损率随靶基距增大而减小,同靶基距时有磁场样品的摩擦系数及磨损率较小。当存在磁场且靶基距在160~180 mm时,沉积的CrAlN薄膜性能最优。该研究结果为制备具有更高性能的CrAlN薄膜提供了重要参考。
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关键词
磁场
靶基距
液滴
结合力
磨损率
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职称材料
题名
负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响
被引量：
5
1
作者
郑锦华
刘青云
李志雄
机构
郑州大学机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心
河南晶华膜技真空科技有限公司
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第4期411-420,共10页
基金
焦作市创新创业领军团队资助项目(No.2019TD007)
河南省“百人计划”资助项目(豫人才办[2015]4号)。
文摘
为了解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度问题,本研究采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术,以等时长、不同偏压条件在45钢基材上沉积复合DLC薄膜。采用扫描电镜、原子力显微镜观察薄膜形貌;采用拉曼光谱仪分析薄膜成分;采用涂层附着力自动划痕仪测定膜基结合强度。结果表明:制备偏压从-600 V~-1200 V变化时,复合DLC薄膜表面粗糙度增大,薄膜总厚度增加,总膜厚最大为16.3μm;氢含量降低,石墨相对含量增加,过渡层DLC与顶层DLC膜间的结构成分差异减小。在等时长沉积条件下,随着制备负偏压的增加,复合DLC薄膜残余应力增大,结合力减小,结合力最大为54.5 N左右。顶层DLC膜制备偏压为-600 V~-800 V时综合性能较优。
关键词
DC-PECVD
负偏压
H-DLC
多峰拟合
结合力
Keywords
DC-PECVD
negative bias voltage
H-DLC
multi-peak fitting
binding force
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
被引量：
1
2
作者
郑锦华
梅诗阳
李志雄
刘青云
机构
郑州大学机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心
河南晶华膜技真空科技有限公司
中国原子能科学
研究
院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第18期2627-2635,共9页
基金
焦作市创新创业领军团队资助项目(No.2019TD007)
河南省“百人计划”资助项目(豫人才办[2015]4号)。
文摘
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场时沉积的薄膜进行了对比。结果表明:薄膜膜厚、表面粗糙度、液滴沉积尺寸及数量随着靶基距增大而减小;相较于无磁场样品,有磁场样品的表面粗糙度更小,曲率半径更大,结合力得到了提高。有磁场时界面结合力约为60 N,且随着靶基距变化不大,而无磁场时结合力变化较大。两者在同条件下对比,结合力提高了20%~80%不等;薄膜摩擦系数与磨损率随靶基距增大而减小,同靶基距时有磁场样品的摩擦系数及磨损率较小。当存在磁场且靶基距在160~180 mm时,沉积的CrAlN薄膜性能最优。该研究结果为制备具有更高性能的CrAlN薄膜提供了重要参考。
关键词
磁场
靶基距
液滴
结合力
磨损率
Keywords
magnetic field
target-substrate distance
droplet
binding force
wear rate
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响
郑锦华
刘青云
李志雄
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
郑锦华
梅诗阳
李志雄
刘青云
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023
1
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职称材料
已选择
0
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参考文献
引证文献
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