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利用掩膜制作光纤光册的分析
1
作者
刘永红
刘水华
+3 位作者
阮迎澜
江山
方罗珍
黄德修
《量子电子学报》
CAS
CSCD
1997年第5期458-463,共6页
利用相位掩膜和准分子激光，可以方便有效地制作光纤光栅．本文从衍射和干涉理论出发，讨论了具有一定空间和时间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布．分析了其对光纤光栅制作的影响．并把分析结果与实...
利用相位掩膜和准分子激光，可以方便有效地制作光纤光栅．本文从衍射和干涉理论出发，讨论了具有一定空间和时间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布．分析了其对光纤光栅制作的影响．并把分析结果与实验现象进行了比较。
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关键词
相位掩膜
光纤光栅
近场光强分布
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职称材料
题名
利用掩膜制作光纤光册的分析
1
作者
刘永红
刘水华
阮迎澜
江山
方罗珍
黄德修
机构
武汉
华中理工大学光电子工程系
邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所
出处
《量子电子学报》
CAS
CSCD
1997年第5期458-463,共6页
文摘
利用相位掩膜和准分子激光，可以方便有效地制作光纤光栅．本文从衍射和干涉理论出发，讨论了具有一定空间和时间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布．分析了其对光纤光栅制作的影响．并把分析结果与实验现象进行了比较。
关键词
相位掩膜
光纤光栅
近场光强分布
Keywords
fiber grating, phase mask,near-field intensity distribution
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
利用掩膜制作光纤光册的分析
刘永红
刘水华
阮迎澜
江山
方罗珍
黄德修
《量子电子学报》
CAS
CSCD
1997
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