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磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究 被引量:4
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作者 李彤 周艳文 +4 位作者 王艳雪 赵卓 武俊生 王晓明 高鹏 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1272-1279,共8页
室温下采用射频磁控溅射氧化锌(Zn O)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备Zn O/Ag/Zn O透明导电薄膜。首先,Zn O厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按Zn O:Ag厚度比为30:11比... 室温下采用射频磁控溅射氧化锌(Zn O)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备Zn O/Ag/Zn O透明导电薄膜。首先,Zn O厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按Zn O:Ag厚度比为30:11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明:Ag厚度为8 nm及11 nm的Zn O/Ag/Zn O表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90%及86%,并且方块电阻为6Ω/及3.20Ω/,具有优良的光电性;当按配比制备Zn O/Ag/Zn O 3层膜时,增加Zn O厚度对Ag层的增透作用反而减弱,同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 射频磁控溅射 粉末靶 镀膜
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粉末靶磁控溅射ZnO/Cu/ZnO的制备及表征 被引量:1
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作者 李彤 赵卓 +2 位作者 武俊生 方方 周艳文 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期70-73,共4页
室温下,采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶和铜(Cu)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜。通过改变Cu层厚度,研究其对ZnO/Cu/ZnO薄膜光电性能的影响。结果表明:ZnO/Cu/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内,当Cu厚度为1... 室温下,采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶和铜(Cu)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜。通过改变Cu层厚度,研究其对ZnO/Cu/ZnO薄膜光电性能的影响。结果表明:ZnO/Cu/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内,当Cu厚度为11 nm和14 nm时,ZnO/Cu/ZnO薄膜的最高透光率分别为79%和74%;当Cu厚度为14 nm时,其载流子浓度及带电粒子运动能力分别为4.85×10^(21)cm^(-3)和6.73 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)。与ZnO/Ag/ZnO薄膜相比,ZnO/Cu/ZnO需要更厚的铜薄膜才能连续,而具有较薄Ag层的ZnO/Ag/ZnO有比ZnO/Cu/ZnO更优良的光电性能。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 粉末靶 射频磁控溅射 光电薄膜
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