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磁控溅射CrN-PEI结合强度与耐磨性增强调控
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作者 由琪 周艳文 +3 位作者 粟志伟 闫彩波 赵卓 肖旋 《中国表面工程》 北大核心 2025年第2期90-98,共9页
作为手机镜头保护盖,芳香族高分子聚合物聚醚酰亚胺(PEI)的耐磨性能不足,表面涂层强化是提高其耐磨性的有效途径之一,提高膜-基界面结合强度是增强硬质涂层有效性的必然要求。采用磁控溅射技术在PEI基体表面沉积氮化铬(Cr N)涂层,研究靶... 作为手机镜头保护盖,芳香族高分子聚合物聚醚酰亚胺(PEI)的耐磨性能不足,表面涂层强化是提高其耐磨性的有效途径之一,提高膜-基界面结合强度是增强硬质涂层有效性的必然要求。采用磁控溅射技术在PEI基体表面沉积氮化铬(Cr N)涂层,研究靶-基距及沉积时间对沉积涂层的形貌、相结构、膜-基界面结合强度和耐磨性的影响。靶-基距为18 cm沉积时,涂层缺陷随沉积时间的延长,即薄膜增厚而减少。缩短靶-基距至13 cm后,即增强了基体表面离子密度,薄膜表面缺陷消失。与18 cm靶-基距下最薄涂层的243.2 GPa模量和24.86 GPa硬度相比,13 cm靶-基距最厚涂层的模量和硬度升到307.3 GPa和26.22 GPa,膜-基结合强度相应改善,涂层的磨损率从基体的10^(-4)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1)降低了一个数量级,降至10^(-5)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1)。在靶-基距为13 cm时,受高能量离子连续轰击,PEI表面硬化层的模量和硬度平均达10.2 GPa和2.2 GPa,该硬化层与纯Cr过渡层和CrN涂层间形成平滑的模量和硬度梯度,降低了涂层与基体间力学性能差异,从而提高硬质涂层与软基体间的协同形变能力,有效增强CrN防护涂层的有效性,使PEI聚合物作为手机镜头保护盖的应用成为可能。 展开更多
关键词 聚醚酰亚胺 磁控溅射 CRN涂层 附着力 协同变形
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