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硅片清洗技术的研究进展
被引量:
9
1
作者
任格格
丁红旗
《科技创新与应用》
2017年第14期59-61,共3页
文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展,包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果。重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗,并分析了各种清洗工艺的优缺点,讨论了硅片清洗工艺中存在的问题,并提出了进一...
文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展,包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果。重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗,并分析了各种清洗工艺的优缺点,讨论了硅片清洗工艺中存在的问题,并提出了进一步发展的方向。
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关键词
硅片
清洗
湿法
干法
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职称材料
题名
硅片清洗技术的研究进展
被引量:
9
1
作者
任格格
丁红旗
机构
辽宁工程技术大学研究生院材料工程系
出处
《科技创新与应用》
2017年第14期59-61,共3页
文摘
文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展,包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果。重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗,并分析了各种清洗工艺的优缺点,讨论了硅片清洗工艺中存在的问题,并提出了进一步发展的方向。
关键词
硅片
清洗
湿法
干法
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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1
硅片清洗技术的研究进展
任格格
丁红旗
《科技创新与应用》
2017
9
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