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硅的离子束抛光技术研究被引量：3: 1; 作者洪义麟付绍军 +4 位作者陶晓明黄文浩褚家如 L.Monica A.M.Baro 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第6期429-431,共3页; 介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法，并给出了不同抛光条件下表面粗糙度的原子力显微镜（AFM）测量结果，其中最好的表面粗糙度达0.12nm（有效值）。; 关键词离子束抛光硅超光滑表面硅表面; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	硅的离子束抛光技术研究	洪义麟付绍军陶晓明黄文浩褚家如 L.Monica A.M.Baro	《真空科学与技术》 CSCD	1995	3	在线阅读下载PDF 职称材料

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