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法拉第效应在光通信和探测上的应用
1
作者 单能飞 肖胜利 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第z2期624-,共1页
由于法拉第效应揭示了光和磁之间的关系,可以利用它来制作磁光器件和传感器,用于光通信系统上。叙述了法拉第效应的原理,介绍了法拉第效应的应用及几种主要的磁光器件,对法拉第效应应用前景作了展望,它将在光通信上发挥重要的作用。
关键词 法拉第效应 光纤电流传感器 磁光调制器 磁光隔离器
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LED光学参数测试方法研究 被引量：21
2
作者 吴宝宁 李宏光 +2 位作者 俞兵 曹锋 邝自力 《应用光学》 CAS CSCD 2007年第4期513-516,共4页
通过分析LED(发光二极管)发光机理和封装特点,选择了LED需要测试的光学参数:光通量、亮度、发光强度、空间光强分布、相对光谱功率分布及色度,进而研究了每个光学参数的特点。根据其特点,制定了每个光学参数的测试原理以及相应的计算公... 通过分析LED(发光二极管)发光机理和封装特点,选择了LED需要测试的光学参数:光通量、亮度、发光强度、空间光强分布、相对光谱功率分布及色度,进而研究了每个光学参数的特点。根据其特点,制定了每个光学参数的测试原理以及相应的计算公式,最终确定了各参数的测试方法。设计了LED光通量测量系统、亮度和发光强度测量系统、发散角及空间光强分布测量系统、相对光谱功率分布及色度测量系统。实际应用表明:这些系统均能满足目前工作需要。 展开更多
关键词 发光二极管 测试方法 光通量 光强分布 色度
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用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm^1.1μm超宽带增透膜 被引量：10
3
作者 谭宇 梁宏军 +1 位作者 刘永强 赵兴梅 《应用光学》 CAS CSCD 2007年第5期623-626,共4页
对0.4μm^1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;... 对0.4μm^1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm^1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。 展开更多
关键词 膜厚 膜层折射率 宽光谱 镀膜材料
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MCP输入电子能量与微光像增强器信噪比的关系 被引量：9
4
作者 石峰 程宏昌 +1 位作者 贺英萍 梁宏军 《应用光学》 CAS CSCD 2008年第4期562-564,共3页
为了提高MCP像增强器亮度增益,在微光像增强器中采用了新的电子倍增机构,即微通道板(MCP),并对作为电子倍增结构MCP的噪声产生机理进行分析。在MCP其他参数不变的条件下,通过调整MCP入射电子的能量和入射电子角度分布,优化了MCP最佳工... 为了提高MCP像增强器亮度增益,在微光像增强器中采用了新的电子倍增机构,即微通道板(MCP),并对作为电子倍增结构MCP的噪声产生机理进行分析。在MCP其他参数不变的条件下,通过调整MCP入射电子的能量和入射电子角度分布,优化了MCP最佳工作信噪比的工作条件,实现了优化MCP像增强器信噪比,提高了MCP像增强器的亮度增益。 展开更多
关键词 微通道板 像增强器 信噪比
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基于FPGA的实时图像增强设计 被引量：3
5
作者 姜文涛 陈卫东 +5 位作者 钱钧 陆阳 贺峻峰 原琦 柴继河 梁红军 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期965-968,共4页
局部直方图均衡是以全局直方图均衡化方法为基础,对图像中每个像素点所在的邻域范围求出灰度转换函数,然后仅应用在该中心点处。为了提高算法的运算速度,特别是在处理视频图像时,采取传统的DSP的设计方法在速度上很难满足需要,因此,利用... 局部直方图均衡是以全局直方图均衡化方法为基础,对图像中每个像素点所在的邻域范围求出灰度转换函数,然后仅应用在该中心点处。为了提高算法的运算速度,特别是在处理视频图像时,采取传统的DSP的设计方法在速度上很难满足需要,因此,利用FPGA实现是一个很好的选择。为使局部直方图均衡方法能够在FPGA上具体实现,从空间域的角度改进了图像灰度直方图均衡算法,并利用VHDL语言对算法进行了完全可综合的RTL级描述,最后在硬件平台上验证了结果。 展开更多
关键词 局部直方图均衡 图像增强 现场可编程门阵列 VHDL语言
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轻武器光电瞄准具 被引量：12
6
作者 刘宇 邝自力 《应用光学》 CAS CSCD 2006年第3期171-176,共6页
轻武器瞄准具可提高武器的打击精度和杀伤力,世界各国军队竞相装备。概述了机械瞄准具、光学瞄准具、光电瞄准具和综合瞄准具的工作原理和特点,介绍了目前世界各国装备的机械和传统光学瞄准具、微光夜视瞄准具、新型光电瞄准具、热成像... 轻武器瞄准具可提高武器的打击精度和杀伤力,世界各国军队竞相装备。概述了机械瞄准具、光学瞄准具、光电瞄准具和综合瞄准具的工作原理和特点,介绍了目前世界各国装备的机械和传统光学瞄准具、微光夜视瞄准具、新型光电瞄准具、热成像瞄准具和综合光电瞄准具的现状,给出了各类典型光电瞄准具和昼夜简易火控系统的发展状况和参数,指出目前及今后机械瞄准具和光学瞄准具仍然是轻武器装备不可缺少的配置,不同类型光电瞄准具是装备的重点,综合光电瞄准具是轻武器瞄准具以后发展的方向。 展开更多
关键词 轻武器瞄准具 光电技术 光电瞄准具 综合瞄准具
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沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构及光学性能的影响 被引量：3
7
作者 朴勇 梁宏军 +4 位作者 高鹏 丁万昱 陆文琪 马腾才 徐军 《应用光学》 CAS CSCD 2006年第4期274-280,共7页
利用微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明：硅靶溅射功率和氮气流量对薄膜化学结构、光学、力学等性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS... 利用微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明：硅靶溅射功率和氮气流量对薄膜化学结构、光学、力学等性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS）表征显示,随着硅靶溅射功率由150W增加到 350 W,薄膜中C-Si-N键含量由14.3%增加到43.6%;氮气流量的增大（2～15 sccm）易于形成更多的sp2C=N键和sp1C≡N键.在改变硅靶溅射功率和氮气流量的条件下,薄膜光学带隙最大值分别达到2.1 eV和2.8 eV。 展开更多
关键词 SiCN薄膜 微波ECR等离子体 沉积参数 光学带隙
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MEMS与MEMS光开关 被引量：10
8
作者 梁宏军 张兴社 《应用光学》 CAS CSCD 2005年第1期60-62,共3页
微机电系统 (MEMS)技术是一种新型制造技术 ,在光通信的发展中得到广泛的应用 ,有极大的市场价值。在整个光通信中 ,光开关是较为重要的光无源器件 ,在光网络系统中可对光信号进行选择性操作。随着光通信的日益发展 ,对光开关的技术要... 微机电系统 (MEMS)技术是一种新型制造技术 ,在光通信的发展中得到广泛的应用 ,有极大的市场价值。在整个光通信中 ,光开关是较为重要的光无源器件 ,在光网络系统中可对光信号进行选择性操作。随着光通信的日益发展 ,对光开关的技术要求也日益提高 ,利用 MEMS技术制作的新型光开关具有体积小、重量轻、能耗低、集成化程度高等特点 ,从而日益成为研究的热点。本文简单介绍了 MEMS技术和其主要特点 ,并较详细地阐述了MEMS技术在光通信中的应用 ,以及 MEMS光开关的结构。 展开更多
关键词 微机电系统 光开关 光通信
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一个可完全自动绘图的光学设计软件——OCAD光学设计软件包 被引量：2
9
作者 姚多舜 梁宏军 《应用光学》 CAS CSCD 2004年第2期28-35,共8页
介绍一个光学设计软件包 (OCAD软件包 ) ,该软件包可以根据光学设计数据执行我国一系列国家标准和国军标 ,自动绘制光学系统图及各种零部件 (包括棱镜 )图。绘出的光学图纸标准、实用、准确 ,可直接用于生产加工 ,免除了以往使用 Auto ... 介绍一个光学设计软件包 (OCAD软件包 ) ,该软件包可以根据光学设计数据执行我国一系列国家标准和国军标 ,自动绘制光学系统图及各种零部件 (包括棱镜 )图。绘出的光学图纸标准、实用、准确 ,可直接用于生产加工 ,免除了以往使用 Auto CAD等各类绘图平台绘图的繁重手工劳动。该软件包还能直接使用国内外其他光学设计软件的数据文件或生成用于其他光学设计软件的数据文件。 展开更多
关键词 光学设计 软件包 自动绘图
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车载周视观瞄平台异轴同步及任意距离修正问题分析及程序实现 被引量：1
10
作者 曹晖 彭富伦 +3 位作者 王虎 梁红军 徐姣杰 严宁 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期567-574,共8页
针对车载周视观瞄平台异轴同步性问题采用几何作图法进行分析,得到异轴同步问题产生的根源是不同光电平台转动过程中由于存在偏差角所致,对校准距离情况下的角偏差,距离小于校准距离情况下的视差和距离大于校准距离情况下的角偏差在3中... 针对车载周视观瞄平台异轴同步性问题采用几何作图法进行分析,得到异轴同步问题产生的根源是不同光电平台转动过程中由于存在偏差角所致,对校准距离情况下的角偏差,距离小于校准距离情况下的视差和距离大于校准距离情况下的角偏差在3中不同区间的修正方法进行分析并进行等效近似,给出程序实现方法,最后用实验验证了此方法的正确性。 展开更多
关键词 周视观瞄平台 异轴同步 任意距离修正
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