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高长径比管式反应器内壁SiO_2与TiO_2钝化层的原子层沉积制备及抗积碳性能 被引量:3
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作者 惠龙飞 李建国 +4 位作者 龚婷 孙道安 吕剑 胡申林 冯昊 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期201-209,共9页
采用原子层沉积技术(ALD)在不锈钢微通道管式反应器内壁沉积二氧化硅(SiO_2)和二氧化钛(TiO_2)薄膜,以抑制碳氢燃料热裂解过程中由于金属催化作用导致的结焦.使用石英晶体微天平(QCM)测得SiO_2和TiO_2薄膜的生长速率分别为0. 15 nm/周期... 采用原子层沉积技术(ALD)在不锈钢微通道管式反应器内壁沉积二氧化硅(SiO_2)和二氧化钛(TiO_2)薄膜,以抑制碳氢燃料热裂解过程中由于金属催化作用导致的结焦.使用石英晶体微天平(QCM)测得SiO_2和TiO_2薄膜的生长速率分别为0. 15 nm/周期和0. 11 nm/周期,因此可以通过改变沉积周期数精确控制钝化层的厚度.在结焦实验中,当钝化膜层较薄时,其抗积碳钝化作用较弱;随着钝化薄膜厚度的增加,其钝化作用逐渐增强,微通道反应器的运行寿命显著延长.实验表明,TiO_2薄膜的抗积碳钝化性能普遍优于SiO_2薄膜.沉积周期数为1000的TiO_2膜层具有最佳的抗积碳钝化效果,能够使反应器的运行时间延长4~5倍. 展开更多
关键词 原子层沉积(ALD) 表面钝化 积碳 二氧化钛(TiO2) 二氧化硅(SiO2)
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原子层沉积氧化物包覆层对奥克托金感度的影响 被引量:3
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作者 秦利军 龚婷 +2 位作者 郝海霞 王克勇 冯昊 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期420-427,共8页
通过原子层沉积(ALD)技术在微米级奥克托今(HMX)炸药颗粒表面包覆了氧化铝和氧化锌薄膜.采用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对包覆后HMX颗粒的表面化学组成和形貌进行了表征,利用差示扫描量热法和热重法分析了包覆后HMX的热分解行为.... 通过原子层沉积(ALD)技术在微米级奥克托今(HMX)炸药颗粒表面包覆了氧化铝和氧化锌薄膜.采用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对包覆后HMX颗粒的表面化学组成和形貌进行了表征,利用差示扫描量热法和热重法分析了包覆后HMX的热分解行为.测试了ALD氧化物包覆的HMX的机械感度和静电火花感度,研究了HMX颗粒表面包覆层的组成和厚度对其感度的影响.结果表明,ALD氧化铝或氧化锌薄膜均能够完整、均匀地覆盖HMX颗粒的全部外表面,薄膜厚度在纳米尺度范围内精确可调.ALD氧化铝或氧化锌薄膜对HMX的热分解性能影响很小.由于金属氧化物具有很高的硬度,ALD氧化铝或氧化锌包覆膜不能降低HMX的机械感度.但氧化物薄膜具有一定的导电性,可降低HMX的静电火花感度. 展开更多
关键词 原子层沉积(ALD) 奥克托今(HMX) 感度 氧化铝 氧化锌
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