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双量子阱结构中电子共振隧穿的相干模型
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作者 金世荣 罗晋生 徐仲英 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第5期333-339,共7页
提出了一种新的计算双量子阱结构中电子共振隧穿时间的相干模型,理论计算与报道的实验结果基本一致.进一步的讨论表明,在有电子散射的情况下,随着势垒厚度的增加,对比度存在极大值,而与类Fabry-Perot模型的单调增加趋势明显不同.
关键词 共振隧穿 双量子阱 PL TRPL F-P模型 电子
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InGaAs/GaAs和InGaAs/AlGaAs应变层量子阱中的子带弛豫过程
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作者 金世荣 罗晋生 +5 位作者 褚君浩 徐仲英 袁之良 罗昌平 许继宗 郑宝真 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期237-240,共4页
利用时间分辨光谱技术,在11~90K温度范围研究了不同阱宽的InGaAs/GaAs和InGaAs/AIGaAs应变层量子阱子带弛豫过程,讨论了这两种量子阱材料中不同散射机制的作用.
关键词 子带间弛豫 应变层量子阱 铟镓砷 激子
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VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
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作者 刘晓梅 胡蓉香 +1 位作者 罗晋生 李中江 《电子科学学刊》 EI CSCD 1991年第6期618-624,共7页
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善... 本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。 展开更多
关键词 MOS器件 场效应晶体管 数值模拟
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