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双量子阱结构中电子共振隧穿的相干模型
1
作者
金世荣
罗晋生
徐仲英
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第5期333-339,共7页
提出了一种新的计算双量子阱结构中电子共振隧穿时间的相干模型,理论计算与报道的实验结果基本一致.进一步的讨论表明,在有电子散射的情况下,随着势垒厚度的增加,对比度存在极大值,而与类Fabry-Perot模型的单调增加趋势明显不同.
关键词
共振隧穿
双量子阱
PL
TRPL
F-P模型
电子
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职称材料
InGaAs/GaAs和InGaAs/AlGaAs应变层量子阱中的子带弛豫过程
2
作者
金世荣
罗晋生
+5 位作者
褚君浩
徐仲英
袁之良
罗昌平
许继宗
郑宝真
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第3期237-240,共4页
利用时间分辨光谱技术,在11~90K温度范围研究了不同阱宽的InGaAs/GaAs和InGaAs/AIGaAs应变层量子阱子带弛豫过程,讨论了这两种量子阱材料中不同散射机制的作用.
关键词
子带间弛豫
应变层量子阱
铟镓砷
激子
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职称材料
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
3
作者
刘晓梅
胡蓉香
+1 位作者
罗晋生
李中江
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991年第6期618-624,共7页
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善...
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。
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关键词
MOS器件
场效应晶体管
数值模拟
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职称材料
题名
双量子阱结构中电子共振隧穿的相干模型
1
作者
金世荣
罗晋生
徐仲英
机构
西安交通大学微电子研究室
中国科学院半导体
研究
所
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第5期333-339,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目
文摘
提出了一种新的计算双量子阱结构中电子共振隧穿时间的相干模型,理论计算与报道的实验结果基本一致.进一步的讨论表明,在有电子散射的情况下,随着势垒厚度的增加,对比度存在极大值,而与类Fabry-Perot模型的单调增加趋势明显不同.
关键词
共振隧穿
双量子阱
PL
TRPL
F-P模型
电子
Keywords
resonant tunneling, double quantum wells, PL, TRPL.
分类号
O471.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
InGaAs/GaAs和InGaAs/AlGaAs应变层量子阱中的子带弛豫过程
2
作者
金世荣
罗晋生
褚君浩
徐仲英
袁之良
罗昌平
许继宗
郑宝真
机构
中国科学院上海技术物理
研究
所红外物理国家重点实验室
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第3期237-240,共4页
文摘
利用时间分辨光谱技术,在11~90K温度范围研究了不同阱宽的InGaAs/GaAs和InGaAs/AIGaAs应变层量子阱子带弛豫过程,讨论了这两种量子阱材料中不同散射机制的作用.
关键词
子带间弛豫
应变层量子阱
铟镓砷
激子
Keywords
intersubband relaxation,strained-layer quantum wells,TRPL.
分类号
O471.3 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
3
作者
刘晓梅
胡蓉香
罗晋生
李中江
机构
西安交通大学
微电子
技术
研究室
国营卫光电工厂
出处
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991年第6期618-624,共7页
文摘
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。
关键词
MOS器件
场效应晶体管
数值模拟
Keywords
Power Transistor
MOSFET
Numerical simulation
Breakdown
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双量子阱结构中电子共振隧穿的相干模型
金世荣
罗晋生
徐仲英
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994
0
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职称材料
2
InGaAs/GaAs和InGaAs/AlGaAs应变层量子阱中的子带弛豫过程
金世荣
罗晋生
褚君浩
徐仲英
袁之良
罗昌平
许继宗
郑宝真
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
刘晓梅
胡蓉香
罗晋生
李中江
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991
0
在线阅读
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职称材料
已选择
0
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参考文献
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