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g-C_(3)N_(4)基S型异质结光催化剂的制备方法和应用
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作者 刘志平 于源 +3 位作者 张德文 吴荣谦 吕毅 刘晓菲 《功能材料》 北大核心 2025年第8期8070-8079,共10页
半导体光催化是一种利用太阳能激发催化剂产生具有氧化还原能力的光生载流子的技术,已在多个领域得到广泛应用。石墨型氮化碳(g-C_(3)N_(4))作为一种无污染的半导体在光催化领域受到研究关注,然而光生载流子复合率高和可见光利用率低限... 半导体光催化是一种利用太阳能激发催化剂产生具有氧化还原能力的光生载流子的技术,已在多个领域得到广泛应用。石墨型氮化碳(g-C_(3)N_(4))作为一种无污染的半导体在光催化领域受到研究关注,然而光生载流子复合率高和可见光利用率低限制其光催化性能。构建g-C_(3)N_(4)基S型异质结是解决本体载流子易复合的有效方法,促进载流子在空间上的有效分离,抑制载流子复合,进而提高光催化性能。首先介绍S型异质结的机理,继而重点介绍g-C_(3)N_(4)基S型异质结制备方法的特点和其在不同领域的应用,最后,提出g-C_(3)N_(4)基S型异质结在光催化领域的发展前景和面临的挑战。 展开更多
关键词 g-C_(3)N_(4) S型异质结 光催化 制备方法 应用
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