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阴极真空弧源沉积氟化类金刚石薄膜的结构与性能研究
被引量：
2
1
作者
姚志强
杨萍
+4 位作者
孙鸿
王进
冷永祥
陈俊英
黄楠
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期727-734,共8页
采用脉冲磁过滤阴极真空弧源沉积系统(FCVA)在单晶硅基片上制备了含氟量不同的一系列氟化类金刚石膜(a-C:F).重点研究了氟掺杂对非晶态碳基薄膜结构、机械性能和疏水性能的影响.薄膜的成分和结构采用X射线光电子能谱仪(XPS)和激光拉曼光...
采用脉冲磁过滤阴极真空弧源沉积系统(FCVA)在单晶硅基片上制备了含氟量不同的一系列氟化类金刚石膜(a-C:F).重点研究了氟掺杂对非晶态碳基薄膜结构、机械性能和疏水性能的影响.薄膜的成分和结构采用X射线光电子能谱仪(XPS)和激光拉曼光谱(Raman)进行了表征,薄膜表面形貌和粗糙度采用原子力显微镜(AFM)进行了分析.使用纳米压痕仪测量了薄膜硬度,纳米划痕仪测量了膜基结合力.采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角来评价其疏水性能.结果表明,随着CF4流量的逐渐增加,薄膜的氟化程度逐渐增强,膜中最大氟含量达45.6 at%;薄膜呈典型的类金刚石状结构,但薄膜的无序化程度增强;由于-CFn+的刻蚀,薄膜表面更加致密化、粗糙度逐渐减小.薄膜的机械性能良好,硬度在12GPa以上.薄膜的疏水性能得到增强,与双蒸水之间的最大接触角达106°,接近于聚四氟乙烯(PTFE,110°).
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关键词
氟化类金刚石膜
磁过滤阴极真空弧源
RAMAN光谱
机械性能
疏水性能
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职称材料
题名
阴极真空弧源沉积氟化类金刚石薄膜的结构与性能研究
被引量：
2
1
作者
姚志强
杨萍
孙鸿
王进
冷永祥
陈俊英
黄楠
机构
西南交通大学材料工程学院材料先进技术教育部重点实验室
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期727-734,共8页
基金
国家重点基础研究规划"973"(1999064706)国家自然科学基金(30370407
30270392)
文摘
采用脉冲磁过滤阴极真空弧源沉积系统(FCVA)在单晶硅基片上制备了含氟量不同的一系列氟化类金刚石膜(a-C:F).重点研究了氟掺杂对非晶态碳基薄膜结构、机械性能和疏水性能的影响.薄膜的成分和结构采用X射线光电子能谱仪(XPS)和激光拉曼光谱(Raman)进行了表征,薄膜表面形貌和粗糙度采用原子力显微镜(AFM)进行了分析.使用纳米压痕仪测量了薄膜硬度,纳米划痕仪测量了膜基结合力.采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角来评价其疏水性能.结果表明,随着CF4流量的逐渐增加,薄膜的氟化程度逐渐增强,膜中最大氟含量达45.6 at%;薄膜呈典型的类金刚石状结构,但薄膜的无序化程度增强;由于-CFn+的刻蚀,薄膜表面更加致密化、粗糙度逐渐减小.薄膜的机械性能良好,硬度在12GPa以上.薄膜的疏水性能得到增强,与双蒸水之间的最大接触角达106°,接近于聚四氟乙烯(PTFE,110°).
关键词
氟化类金刚石膜
磁过滤阴极真空弧源
RAMAN光谱
机械性能
疏水性能
Keywords
A-C-H
AMORPHOUS-CARBON
ION-IMPLANTATION
PLASMA
COATINGS
分类号
O484 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
阴极真空弧源沉积氟化类金刚石薄膜的结构与性能研究
姚志强
杨萍
孙鸿
王进
冷永祥
陈俊英
黄楠
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
2
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