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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评
被引量:
13
1
作者
马胜利
徐可为
介万奇
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期438-443,共6页
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
关键词
制备
气相沉积技术
硬质薄膜
PCVD
等离子体辅助化学气相沉积
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职称材料
题名
气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评
被引量:
13
1
作者
马胜利
徐可为
介万奇
机构
西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室
西安交通
大学
金属
材料强度
国家
重点
实验室
出处
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期438-443,共6页
基金
国家 8 63计划 (2 0 0 1AA883 0 10 )
国家自然科学基金项目 (5 0 2 710 5 3 )
文摘
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
关键词
制备
气相沉积技术
硬质薄膜
PCVD
等离子体辅助化学气相沉积
Keywords
Vapor deposition technique,Thin hard film,PCVD
分类号
TB43 [一般工业技术]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评
马胜利
徐可为
介万奇
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
13
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