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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 被引量:13
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作者 马胜利 徐可为 介万奇 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期438-443,共6页
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
关键词 制备 气相沉积技术 硬质薄膜 PCVD 等离子体辅助化学气相沉积
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