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Cr掺杂及Cr过渡层对类金刚石薄膜附着力的影响
被引量：
24
1
作者
孙丽丽
代伟
+1 位作者
张栋
汪爱英
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期26-28,34,共4页
采用线性离子束复合磁控溅射的混合PVD技术制备了含Cr过渡层以及Cr掺杂的DLC薄膜,并测量了其厚度、残余应力、结合力、摩擦因数等性能。划痕测试的结果表明,增加过渡层后薄膜的结合状况得到了明显改善,其残余应力也有所下降,Cr掺杂的DL...
采用线性离子束复合磁控溅射的混合PVD技术制备了含Cr过渡层以及Cr掺杂的DLC薄膜,并测量了其厚度、残余应力、结合力、摩擦因数等性能。划痕测试的结果表明,增加过渡层后薄膜的结合状况得到了明显改善,其残余应力也有所下降,Cr掺杂的DLC薄膜残余压应力最低可达0.23GPa。有关结果为强膜基结合力、低应力、大面积的类金刚石薄膜可控制备提供了新的技术思路。
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关键词
类金刚石膜
CR掺杂
过渡层
结合力
残余应力
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职称材料
题名
Cr掺杂及Cr过渡层对类金刚石薄膜附着力的影响
被引量：
24
1
作者
孙丽丽
代伟
张栋
汪爱英
机构
表面工程与再制造事业部中科院宁波材料技术与工程研究所
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期26-28,34,共4页
基金
浙江省科技攻关重点项目(2009C11S550048)
浙江省科技支撑面上项目(2008C21054)
文摘
采用线性离子束复合磁控溅射的混合PVD技术制备了含Cr过渡层以及Cr掺杂的DLC薄膜,并测量了其厚度、残余应力、结合力、摩擦因数等性能。划痕测试的结果表明,增加过渡层后薄膜的结合状况得到了明显改善,其残余应力也有所下降,Cr掺杂的DLC薄膜残余压应力最低可达0.23GPa。有关结果为强膜基结合力、低应力、大面积的类金刚石薄膜可控制备提供了新的技术思路。
关键词
类金刚石膜
CR掺杂
过渡层
结合力
残余应力
Keywords
diamond-like carbon
Cr-doped
buffer layer
adhesion
residual stress
分类号
TB381 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Cr掺杂及Cr过渡层对类金刚石薄膜附着力的影响
孙丽丽
代伟
张栋
汪爱英
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
24
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