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HCl电子气体超纯纯化技术研究 被引量:3
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作者 叶向荣 刘华平 +4 位作者 黄明星 钟军 张坚文 王树华 陈刚 《低温与特气》 CAS 2019年第1期34-39,共6页
报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性... 报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性金属杂质,对HCl中的多数金属杂质有吸附滞留作用。 展开更多
关键词 纯化材料 纯化器 氯化氢 深度除水 吸附滞留
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基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究 被引量:4
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作者 叶向荣 刘华平 +4 位作者 黄明星 张广第 李军 陈刚 张坚文 《低温与特气》 CAS 2020年第2期1-10,共10页
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性... HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性有限。该工作对活性炭进行了酰氯化修饰,并研究了酰氯化活性炭对HCl电子气体的深度除水作用。结果表明,活性炭经氧化酸化和酰氯化处理后,形成的表面酰氯化官能团可选择性地与HCl电子气体中的ppmv(10-6)级水分反应,将水分转化为HCl,使HCl电子气体中水分降至ppbv级,同时自身水解生成表面羧基等官能团,对存在HCl电子气体中和活性炭可能释出的痕量金属离子,有吸附阻滞作用,抑制了深度除水后HCl电子气体中金属离子的显著增加。由于表面羧基等官能团可重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能。该工作也为探索石墨烯、碳纳米管等新型碳材料在电子气体深度纯化上的新应用提供了依据。 展开更多
关键词 氯化氢电子气体 深度除水 活性炭 酰氯化 表面官能团
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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定氟化氢气体中16种金属元素 被引量:3
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作者 钟军 李军 +2 位作者 叶林 谭慧 郑红梅 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2020年第8期888-892,共5页
基于电子工业对氟化氢气体中金属离子含量的严格要求,以自制的简单的气体吸收装置吸收氟化氢气体,通过吸收前后吸收液的质量变化得到氟化氢的质量,采用附带耐氢氟酸进样系统的电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)在最优的仪器工作... 基于电子工业对氟化氢气体中金属离子含量的严格要求,以自制的简单的气体吸收装置吸收氟化氢气体,通过吸收前后吸收液的质量变化得到氟化氢的质量,采用附带耐氢氟酸进样系统的电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)在最优的仪器工作条件下测定吸收液中的钾、镁、铝、钡、锌、铬、钴、镉、铁、铜、镍、铅、锰、钠、钙和锡等16种金属元素的含量。结果表明:16种金属元素的质量浓度均在一定范围内与其对应的光谱强度呈线性关系,相关系数均大于0.999 0,检出限(3s)为0.10~6.0μg·L^-1,测定值的相对标准偏差(n=11)为0.96%~5.0%。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体原子发射光谱法 自制气体吸收装置 金属元素 氟化氢气体
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