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阴极碳靶电流对物理气相沉积制备ta-C薄膜性能的影响
1
作者
温鑫
李多生
+5 位作者
叶寅
徐锋
郎文昌
刘俊红
于爽爽
余欣秀
《材料导报》
北大核心
2025年第10期138-142,共5页
采用物理气相沉积的方法,利用真空阴极离子沉积系统,通过改变阴极碳靶电流在硬质合金表面沉积四面体非晶碳膜(ta-C)薄膜。通过改变阴极碳靶电流(55~95 A),探究电流对ta-C薄膜综合性能的影响,并对ta-C薄膜的表面形态、化学结构、力学性...
采用物理气相沉积的方法,利用真空阴极离子沉积系统,通过改变阴极碳靶电流在硬质合金表面沉积四面体非晶碳膜(ta-C)薄膜。通过改变阴极碳靶电流(55~95 A),探究电流对ta-C薄膜综合性能的影响,并对ta-C薄膜的表面形态、化学结构、力学性能和摩擦性能等进行了分析。结果显示:阴极碳靶电流为55 A时,薄膜表面最光滑致密,sp^(3)键含量最大为63.5%,摩擦系数最小为0.0193,硬度和弹性模量分别为33.46 GPa和392.34 GPa,获得综合性能优良的ta-C薄膜。
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关键词
阴极碳靶电流
ta-C薄膜
sp^(3)杂化键含量
摩擦性能
力学性能
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职称材料
题名
阴极碳靶电流对物理气相沉积制备ta-C薄膜性能的影响
1
作者
温鑫
李多生
叶寅
徐锋
郎文昌
刘俊红
于爽爽
余欣秀
机构
南昌航空大学材料
科
学与工程学院
南京航空航天大学机电学院
苏州艾钛科纳米科技有限公司
出处
《材料导报》
北大核心
2025年第10期138-142,共5页
基金
国家自然科学基金(51562027,52375441)
江西省重点研发计划重点项目(20201BBE51001)
江苏省重点研发计划(产业前瞻与关键核心技术)(BE2021055)。
文摘
采用物理气相沉积的方法,利用真空阴极离子沉积系统,通过改变阴极碳靶电流在硬质合金表面沉积四面体非晶碳膜(ta-C)薄膜。通过改变阴极碳靶电流(55~95 A),探究电流对ta-C薄膜综合性能的影响,并对ta-C薄膜的表面形态、化学结构、力学性能和摩擦性能等进行了分析。结果显示:阴极碳靶电流为55 A时,薄膜表面最光滑致密,sp^(3)键含量最大为63.5%,摩擦系数最小为0.0193,硬度和弹性模量分别为33.46 GPa和392.34 GPa,获得综合性能优良的ta-C薄膜。
关键词
阴极碳靶电流
ta-C薄膜
sp^(3)杂化键含量
摩擦性能
力学性能
Keywords
cathode carbon target current
ta-C film
sp^(3)hybrid bond content
frictional property
mechanical property
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
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作者
出处
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被引量
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1
阴极碳靶电流对物理气相沉积制备ta-C薄膜性能的影响
温鑫
李多生
叶寅
徐锋
郎文昌
刘俊红
于爽爽
余欣秀
《材料导报》
北大核心
2025
0
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