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题名TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应
被引量：6
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作者
赖倩茜
虞晓江
戴嘉维
李戈扬
宁兆元
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机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
苏州大学薄膜材料重点实验室
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第4期313-316,共4页
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文摘
为了研究纳米多层薄膜的超硬效应 ,采用反应溅射法制备从 1 4nm至 2 7nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜。高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现 ,TiN/NbN膜具有很好的调制结构 ,并呈现以面心立方晶体结构穿过调制界面外延生长的多晶超晶格结构特征。显微硬度测量表明 ,TiN/NbN纳米多层膜存在随调制周期变化的超硬效应。薄膜在调制周期为 8 3nm时达到HK39 0GPa的最高硬度。分析认为 ,两种不同晶格常数的晶体外延生长形成的交变应力场 ,对材料有强化作用 。
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关键词
纳米多层薄膜
超硬效应
TiN/NbN超晶格薄膜
调制结构
超硬度
交变应力场
氮化钛
氮化铌
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Keywords
TiN/NbN multilayers,Modulation structure,Superhardness,Alternating stress field
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分类号
O484.4
[理学—固体物理]
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题名纳米多层膜中立方AlN外延生长的HRTEM观察
被引量：5
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作者
田家万
劳技军
虞晓江
李戈扬
宁兆元
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机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
苏州大学薄膜材料重点实验室
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出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期633-634,共2页
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关键词
纳米多层膜
AIN
外延生长
HRTEM
高分辨电子显微镜
立方相
氮化铝
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分类号
TB383
[一般工业技术—材料科学与工程]
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