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抛光垫及抛光液对固结磨料抛光氧化镓晶体的影响
被引量：
3
1
作者
吴成
李军
+2 位作者
侯天逸
于宁斌
高秀娟
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2022年第6期720-727,共8页
氧化镓晶体具有高禁带宽度、耐高压、短吸收截止边等优点,是最具代表性的第四代半导体材料之一,具有广阔地应用前景。氧化镓晶体抛光过程易出现微裂纹、划痕等表面缺陷,难以实现高质量表面加工,无法满足相应器件的使用要求,且现有的氧...
氧化镓晶体具有高禁带宽度、耐高压、短吸收截止边等优点,是最具代表性的第四代半导体材料之一,具有广阔地应用前景。氧化镓晶体抛光过程易出现微裂纹、划痕等表面缺陷,难以实现高质量表面加工,无法满足相应器件的使用要求,且现有的氧化镓晶体抛光工艺复杂、效率低。固结磨料抛光技术具有磨粒分布及切深可控、磨粒利用率高等优点。采用固结磨料抛光氧化镓晶体,探究抛光垫基体硬度、磨料浓度和抛光液添加剂对被抛光材料去除率和表面质量的影响。结果表明:当抛光垫基体硬度适中为Ⅱ、金刚石磨粒浓度为100%、抛光液添加剂为草酸时,固结磨料抛光氧化镓晶体的材料去除率为68 nm/min,表面粗糙度Sa为3.17 nm。采用固结磨料抛光技术可以实现氧化镓晶体的高效高质量抛光。
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关键词
固结磨料抛光
氧化镓晶体
材料去除率
表面粗糙度
固结磨料抛光垫
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职称材料
题名
抛光垫及抛光液对固结磨料抛光氧化镓晶体的影响
被引量：
3
1
作者
吴成
李军
侯天逸
于宁斌
高秀娟
机构
南京
航空
航天大学机电学院
航空工业
成都
飞机
工业
(
集团
)
有限责任公司
检验
检测
部
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2022年第6期720-727,共8页
基金
国家自然科学基金联合基金项目(U20A20293)
国家自然科学基金面上项目(52075318)
江苏省“六大人才高峰”高层次人才项目(JXQC-010)。
文摘
氧化镓晶体具有高禁带宽度、耐高压、短吸收截止边等优点,是最具代表性的第四代半导体材料之一,具有广阔地应用前景。氧化镓晶体抛光过程易出现微裂纹、划痕等表面缺陷,难以实现高质量表面加工,无法满足相应器件的使用要求,且现有的氧化镓晶体抛光工艺复杂、效率低。固结磨料抛光技术具有磨粒分布及切深可控、磨粒利用率高等优点。采用固结磨料抛光氧化镓晶体,探究抛光垫基体硬度、磨料浓度和抛光液添加剂对被抛光材料去除率和表面质量的影响。结果表明:当抛光垫基体硬度适中为Ⅱ、金刚石磨粒浓度为100%、抛光液添加剂为草酸时,固结磨料抛光氧化镓晶体的材料去除率为68 nm/min,表面粗糙度Sa为3.17 nm。采用固结磨料抛光技术可以实现氧化镓晶体的高效高质量抛光。
关键词
固结磨料抛光
氧化镓晶体
材料去除率
表面粗糙度
固结磨料抛光垫
Keywords
fixed abrasive polishing
gallium oxide crystal
material removal rate
surface roughness
fixed abrasive pad
分类号
TG58 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
抛光垫及抛光液对固结磨料抛光氧化镓晶体的影响
吴成
李军
侯天逸
于宁斌
高秀娟
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2022
3
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