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陶瓷单晶 ( 1 0 0 )基底上外延生长Pt薄膜(英文)
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作者 赵昆 黄康权 张丽 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期690-693,共4页
用对靶溅射技术在MgAl2 O4(10 0 ) (MAO)和SrTiO3 (10 0 ) (STO)单晶基底上制备Pt薄膜。基底温度为 70 0℃时 ,Pt薄膜外延生长为 (2 0 0 )取向 ,Pt/STO薄膜的电阻率很低 ,而Pt/MAO薄膜表现出高电阻特征。此外 ,Pt(5 0nm) /La0 .67Ca0 .3... 用对靶溅射技术在MgAl2 O4(10 0 ) (MAO)和SrTiO3 (10 0 ) (STO)单晶基底上制备Pt薄膜。基底温度为 70 0℃时 ,Pt薄膜外延生长为 (2 0 0 )取向 ,Pt/STO薄膜的电阻率很低 ,而Pt/MAO薄膜表现出高电阻特征。此外 ,Pt(5 0nm) /La0 .67Ca0 .3 3 MnO3 (5 0nm) /STO的制备和研究表明 ,在包括庞磁电阻材料的器件设计中 ,Pt是一种较好的电极材料。 展开更多
关键词 陶瓷单晶 对靶溅射技术 MGAL2O4 铝酸镁 Pt薄膜 X射线衍射 原子力显微镜 庞磁电阻
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