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BPSG膜的CVD方法: 1; 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第4期3-3,共1页; 一种用于在半导体晶片或者衬底上原位形成高浓度硼磷硅酸盐玻璃膜的方法和装置。在实施例中，该方法由将衬底提供到腔室中开始。该方法通过将硅源、氧源、硼源和磷源提供到腔室中以便在衬底上形成高浓度硼磷硅酸盐玻璃层继续。该方法进... 展开更多; 关键词 BPSG膜 CVD 磷硅酸盐半导体晶片原位形成玻璃层衬底玻璃膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

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