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基于BiOX(X=Cl、Br、I)新型高性能光催化材料的最新研究进展 被引量:13
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作者 刘家琴 吴玉程 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期1009-1017,共9页
铋系半导体Bi OX(X=Cl、Br、I)因其独特的层状结构和合适的禁带宽度而表现出优异的光催化活性与稳定性,已成为光催化材料领域极具应用前景的材料体系。本文首先针对Bi OX(X=Cl、Br、I)光催化材料研究中的关键科学问题进行了深入分析,进... 铋系半导体Bi OX(X=Cl、Br、I)因其独特的层状结构和合适的禁带宽度而表现出优异的光催化活性与稳定性,已成为光催化材料领域极具应用前景的材料体系。本文首先针对Bi OX(X=Cl、Br、I)光催化材料研究中的关键科学问题进行了深入分析,进一步综述了国内外解决上述关键问题所采取的有效措施,包括:微结构调控、半导体复合、贵金属沉积、离子掺杂和表面敏化等,并针对纳米结构Bi OX(X=Cl、Br、I)负载于合适载体上实现固载的研究进展进行了概述,从而对基于Bi OX(X=Cl、Br、I)新型高性能光催化材料的最新研究进展进行了全面深入的综述,最后展望了Bi OX光催化材料的研究方向与趋势。 展开更多
关键词 BiOX(X=Cl、Br、I) 半导体 光催化 改性 固载 综述
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