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电子移相调幅器在数字式介质损耗测量中的应用 被引量:1
1
作者 林国庆 万蕾迎 《电测与仪表》 北大核心 2002年第7期30-33,共4页
提出了一种新型的电子移相调幅抗干扰原理。仪器内部产生的移相调幅信号能自动跟踪干扰信号的大小和相位,与干扰信号大小相等、相位相反,使两者互相抵消,提高了介质损耗和电容的测量精度,可使仪器在电磁场干扰严重的情况下得到准确、可... 提出了一种新型的电子移相调幅抗干扰原理。仪器内部产生的移相调幅信号能自动跟踪干扰信号的大小和相位,与干扰信号大小相等、相位相反,使两者互相抵消,提高了介质损耗和电容的测量精度,可使仪器在电磁场干扰严重的情况下得到准确、可靠的结果。文中介绍了它的工作原理、电路组成和软件设计,给出了实验结果。 展开更多
关键词 电子移相调幅器 数字式 介质损耗测量 单片机 强干扰
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住宅小区智能化集成系统设计 被引量:4
2
作者 刘志辉 郭红 +2 位作者 胡黎明 李坚 宁赛丝 《计算机应用》 CSCD 1999年第7期48-50,共3页
本文首先概述现代住宅小区建设的概况,随后以一个具体工程为例,分析现代住宅小区智能化建设方面的社会需求,并论述该小区智能化集成系统的功能设计方案。
关键词 住宅小区 智能化集成系统 智能建筑
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气相法WO_3纳米粉体的H_2S气敏性能研究 被引量:15
3
作者 林金阳 黄世震 +2 位作者 林伟 陈伟 黄建敏 《传感技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期611-613,共3页
采用气相反应法,以纯钨丝为原料,制备了WO3粉末,又以此WO3粉末为基材,掺用溶胶--凝胶制成的TiO2,制作了H2S气敏传感元件。在性能测试中发现,该元件对浓度为10×10-6H2S的灵敏,有较高的灵敏度和较好的响应-恢复特性。文中从材料的微... 采用气相反应法,以纯钨丝为原料,制备了WO3粉末,又以此WO3粉末为基材,掺用溶胶--凝胶制成的TiO2,制作了H2S气敏传感元件。在性能测试中发现,该元件对浓度为10×10-6H2S的灵敏,有较高的灵敏度和较好的响应-恢复特性。文中从材料的微观结构入手,对材料的敏感机理作了分析。 展开更多
关键词 WO3 气相反应法 气敏材料 H2S
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用气相反应法制备纳米WO_3气敏材料 被引量:10
4
作者 余华梁 黄世震 +1 位作者 林伟 陈伟 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期325-328,共4页
材料的制备是研制半导体气敏传感器的关键环节。用气相反应法,以纯钨丝为原料,制备了WO3粉末,又以此WO3粉末为基材,制作了NO2气敏传感元件。在性能测试中发现,该元件对低浓度(10-10)NO2灵敏,灵敏度可达10倍左右,而且响应迅速,响应时间为... 材料的制备是研制半导体气敏传感器的关键环节。用气相反应法,以纯钨丝为原料,制备了WO3粉末,又以此WO3粉末为基材,制作了NO2气敏传感元件。在性能测试中发现,该元件对低浓度(10-10)NO2灵敏,灵敏度可达10倍左右,而且响应迅速,响应时间为1.5s。文中从材料的微观结构入手,对材料的敏感机理作了分析。 展开更多
关键词 气相反应法 纳米WO3 气敏性质 NO2
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AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用 被引量:17
5
作者 陈光红 于映 +1 位作者 罗仲梓 吴清鑫 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期431-433,440,共4页
研究了AZ5214E反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚 2μm的金薄膜。用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面。
关键词 AZ5214E 反转 剥离
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接触式串联射频MEMS开关的工艺研究 被引量:5
6
作者 于映 罗仲梓 翁心桥 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期306-308,共3页
本文采用MEMS工艺制作接触式串联射频开关 ,射频开关采用双端固定的悬臂梁结构 ,悬梁为PECVD制作的SiN薄膜 ,溅射Au制作共平面波导 ,聚酰亚胺作为牺牲层 ,运用等离子体刻蚀法释放牺牲层。研究了悬梁、共平面波导以及电极的制作工艺 ,并... 本文采用MEMS工艺制作接触式串联射频开关 ,射频开关采用双端固定的悬臂梁结构 ,悬梁为PECVD制作的SiN薄膜 ,溅射Au制作共平面波导 ,聚酰亚胺作为牺牲层 ,运用等离子体刻蚀法释放牺牲层。研究了悬梁、共平面波导以及电极的制作工艺 ,并分析了牺牲层的制作和刻蚀工艺对开关结构的影响。 展开更多
关键词 共平面波导 牺牲层 刻蚀工艺 射频开关 MEMS开关 接触式 PECVD 串联 开关结构 电极
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室温下单晶硅压痕微裂纹的形成与扩展 被引量:6
7
作者 张琼 周海芳 李斗星 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期56-58,共3页
用透射电镜定位观察研究了在室温下高纯单晶硅显微压痕表面radial脆性微裂纹的纳观形变 ,阐述了塑性变形对微裂纹形核、扩展及开裂的影响。发现 :室温下单晶硅的压痕前沿经历了极复杂的非线性演化 :前沿区的位错发射与运动 (Kcleave>... 用透射电镜定位观察研究了在室温下高纯单晶硅显微压痕表面radial脆性微裂纹的纳观形变 ,阐述了塑性变形对微裂纹形核、扩展及开裂的影响。发现 :室温下单晶硅的压痕前沿经历了极复杂的非线性演化 :前沿区的位错发射与运动 (Kcleave>Kemit时 )、解理微纹形核与扩展 (σ塞 >σth 时 )。 展开更多
关键词 定位观察 位错 塑性诱导解理 室温 单晶硅 压痕 微裂纹
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单晶硅裂纹尖端的位错发射行为 被引量:2
8
作者 张琼 周海芳 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期815-818,共4页
利用透射电镜原位观察了单晶硅压痕裂纹尖端位错及位错偶沿滑移面的发射行为。考察了滑移面取向、外荷对发射位错及塑性区的影响。结果表明 :在I型载荷作用下 ,滑移面与裂纹面夹角要影响从裂纹尖端发射的位错数量及塑性区。发射出的位... 利用透射电镜原位观察了单晶硅压痕裂纹尖端位错及位错偶沿滑移面的发射行为。考察了滑移面取向、外荷对发射位错及塑性区的影响。结果表明 :在I型载荷作用下 ,滑移面与裂纹面夹角要影响从裂纹尖端发射的位错数量及塑性区。发射出的位错可沿最大切应力方向改变运动方向或交换滑移面运动。实验观察的位错宽度平均值为 2 2 .0nm ,与Peierls位错框架模型计算的 2 3. 展开更多
关键词 位错发射 TEM 塑性区 单晶硅 裂纹
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气相反应法制备纳米WO3气敏材料 被引量:2
9
作者 余华梁 黄世震 +2 位作者 林伟 李巍 陈知前 《郑州轻工业学院学报(自然科学版)》 CAS 2004年第4期54-54,共1页
关键词 气相反应法 WO3 气敏材料 纳米材料 制备方法
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用活性法对铝膜(材)表面着色的探讨
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作者 章秀淦 《表面技术》 EI CAS CSCD 1994年第3期128-130,共3页
介绍了在金相镜光涂料染色浴中加入适量的活性剂,对具有镜面的铝膜(材)表面进行染色的方法;并从实验中得出了所染颜色与时间,匀染剂量的关系曲线。
关键词 着色 真空镀铝 非金属材料 活性法
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聚酰亚胺(PI)树脂在电容式RF MEMS开关制作中的应用 被引量:2
11
作者 彭慧耀 于映 +1 位作者 罗仲梓 王培森 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05B期1896-1899,共4页
聚酰亚胺树脂(PI)因其良好的平面化特性、在氧气中易灰化、不完全固化易溶解于碱性显影液、在CHF3等离子气氛中有较强的抗蚀性等性质,在电容RFMEMS开关的制作过程中,应用它作为刻蚀保护层和牺牲层,不但可以使工艺过程得到简化,而且可以... 聚酰亚胺树脂(PI)因其良好的平面化特性、在氧气中易灰化、不完全固化易溶解于碱性显影液、在CHF3等离子气氛中有较强的抗蚀性等性质,在电容RFMEMS开关的制作过程中,应用它作为刻蚀保护层和牺牲层,不但可以使工艺过程得到简化,而且可以对开关的介质层尺寸、牺牲层厚度等图形参数起到很好的控制作用. 展开更多
关键词 聚酰亚胺 RF MEMS电容式开关 光刻 牺牲层 保护层
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便携式农药残留毒性快速测试仪──水果和蔬菜农药残留动力学速测方法 被引量:15
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作者 黄文风 蔡琪 +3 位作者 黄敏 林而立 卢子明 林吉申 《分析测试学报》 CAS CSCD 2000年第6期87-89,共3页
研制了一种新型的化学动力学测试仪器,适用于水果和蔬菜农药残留毒性的测试。阐述了根据农药的毒理学机制所进行的仪器设计原理,讨论了满足设计要求的关键技术和测试方法。该仪器测定速度快,试剂费用低廉;其灵敏度为敌敌畏≤0.3... 研制了一种新型的化学动力学测试仪器,适用于水果和蔬菜农药残留毒性的测试。阐述了根据农药的毒理学机制所进行的仪器设计原理,讨论了满足设计要求的关键技术和测试方法。该仪器测定速度快,试剂费用低廉;其灵敏度为敌敌畏≤0.3mg/L,甲胺磷≤1.5mg/L。 展开更多
关键词 农药残留 蔬菜 水果 化学动力学测试仪器
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