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铜铟镓硒薄膜光伏组件中电池与封装材料界面的光学特性对组件性能的影响
被引量：
2
1
作者
林舒平
单洪青
庄大明
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期849-857,共9页
根据测试数据,分析模拟了铜铟镓硒(CIGS)薄膜光伏组件中电池的活性区域、非活性区域与封装材料之间界面的光学特性对组件的短路电流产生的影响。根据组件结构建立了光学模型,从光学模拟结果分析组件内的反射与吸收。发现电池前电极透明...
根据测试数据,分析模拟了铜铟镓硒(CIGS)薄膜光伏组件中电池的活性区域、非活性区域与封装材料之间界面的光学特性对组件的短路电流产生的影响。根据组件结构建立了光学模型,从光学模拟结果分析组件内的反射与吸收。发现电池前电极透明导电氧化物薄膜(TCO)与封装材料界面的反射不可忽视,提出通过在透明导电氧化物薄膜与封装材料之间添加减反射层,并以MgO作为膜层材料以降低活性区域的界面反射;模拟了在非活性区域一次反射光角度与二次反射的关系,由此分析了非活性区域反射面倾角、镜面反射与漫反射比例对光利用的影响。模拟结果显示,活性区域的减反层结构可降低透明导电氧化物薄膜表面的反射率1%以上,而通过在非活性面积区域制备光反射结构,理论上能够利用非活性区域光照超过50%。
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关键词
铜铟镓硒薄膜光伏组件
模拟
界面反射
光管理
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职称材料
磁控溅射沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的棒状晶粒生长
被引量：
4
2
作者
赵笑昆
李博研
张增光
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第A01期112-115,共4页
Al掺杂ZnO(AZO)薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO薄膜,研究了溅射压强对晶体结构、微观结构、电学和光学性能的影响,实...
Al掺杂ZnO(AZO)薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO薄膜,研究了溅射压强对晶体结构、微观结构、电学和光学性能的影响,实现微观结构和性能的调节。结果表明,溅射压强增大,薄膜沉积速率降低,晶体c轴择优取向生长变弱,晶粒尺寸变大且存在长度大于100nm的棒状晶粒。0.933Pa时薄膜电阻率降至最低(1.01×10^-3Ω·cm),可见光透过率为79.7%,禁带宽度Eg=3.82eV,有利于透明导电膜的应用。
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关键词
Al掺杂ZnO
射频磁控溅射
压强
晶粒生长
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职称材料
题名
铜铟镓硒薄膜光伏组件中电池与封装材料界面的光学特性对组件性能的影响
被引量：
2
1
作者
林舒平
单洪青
庄大明
机构
北京
低碳清洁能源研究院
神华
(
北京
)
光
伏
科技
研发
有限公司
清华大学材料科学与工程学院
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期849-857,共9页
基金
国家重点研发计划(2018YFB1500200)资助项目。
文摘
根据测试数据,分析模拟了铜铟镓硒(CIGS)薄膜光伏组件中电池的活性区域、非活性区域与封装材料之间界面的光学特性对组件的短路电流产生的影响。根据组件结构建立了光学模型,从光学模拟结果分析组件内的反射与吸收。发现电池前电极透明导电氧化物薄膜(TCO)与封装材料界面的反射不可忽视,提出通过在透明导电氧化物薄膜与封装材料之间添加减反射层,并以MgO作为膜层材料以降低活性区域的界面反射;模拟了在非活性区域一次反射光角度与二次反射的关系,由此分析了非活性区域反射面倾角、镜面反射与漫反射比例对光利用的影响。模拟结果显示,活性区域的减反层结构可降低透明导电氧化物薄膜表面的反射率1%以上,而通过在非活性面积区域制备光反射结构,理论上能够利用非活性区域光照超过50%。
关键词
铜铟镓硒薄膜光伏组件
模拟
界面反射
光管理
Keywords
Cu(In,Ga)Se2 thin film solar module
simulation
interface reflection
light management
分类号
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
磁控溅射沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的棒状晶粒生长
被引量：
4
2
作者
赵笑昆
李博研
张增光
机构
神华
(
北京
)
光
伏
科技
研发
有限公司
北京
市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第A01期112-115,共4页
基金
国家重点研发计划项目(2018YFB1500200)
北京市科技计划项目(Z181100005118003)~~
文摘
Al掺杂ZnO(AZO)薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO薄膜,研究了溅射压强对晶体结构、微观结构、电学和光学性能的影响,实现微观结构和性能的调节。结果表明,溅射压强增大,薄膜沉积速率降低,晶体c轴择优取向生长变弱,晶粒尺寸变大且存在长度大于100nm的棒状晶粒。0.933Pa时薄膜电阻率降至最低(1.01×10^-3Ω·cm),可见光透过率为79.7%,禁带宽度Eg=3.82eV,有利于透明导电膜的应用。
关键词
Al掺杂ZnO
射频磁控溅射
压强
晶粒生长
Keywords
Al-doped ZnO
RF magnetron sputtering
working pressure
grain growth
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
铜铟镓硒薄膜光伏组件中电池与封装材料界面的光学特性对组件性能的影响
林舒平
单洪青
庄大明
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
磁控溅射沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的棒状晶粒生长
赵笑昆
李博研
张增光
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
4
在线阅读
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职称材料
已选择
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