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用于微电子封装的化学镀纯镍工艺
被引量:
3
1
作者
刘巧明
夏传义
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期14-16,共3页
研究了一种能获得厚的纯镍化学镀溶液,讨论了溶液中各种化学成分、操作温度、稳定剂对沉积速度的影响,在此基础上确定了最佳配方及操作程序.对电子元件引线镀镍、镀金后的拉力进行了测试,对镀层硬度、方阻进行了测定.此方法适用于电子...
研究了一种能获得厚的纯镍化学镀溶液,讨论了溶液中各种化学成分、操作温度、稳定剂对沉积速度的影响,在此基础上确定了最佳配方及操作程序.对电子元件引线镀镍、镀金后的拉力进行了测试,对镀层硬度、方阻进行了测定.此方法适用于电子封装中W、Mo-Mn金属化及Cu、Ni、可伐等金属上的镀覆.
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关键词
镀镍
封装
微电子
镍合金
电镀
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职称材料
国军标器件3DG135的可靠性研究
2
作者
崔恩录
穆杰
+1 位作者
王于辉
秦仲波
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期16-18,共3页
较详细地叙述了3DG135在可靠性研究过程中,技术攻关的主要内容及所采取的工艺措施,并给出三个检验批次认证的实验结果。
关键词
国军标
硅超高频晶体管
半导体器件
可靠性
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职称材料
台湾半导体工业现状(续)
3
作者
李栓庆
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期6-7,共2页
台湾半导体工业现状(续)石家庄电子工业部第十三研究所(石家庄050051)李栓庆1994年台湾产值突破百亿,增长率达到231%。需求量增大给半导体制造商带来新的机会和希望。台湾的半导体厂家都认识到了只有大投入才能得到...
台湾半导体工业现状(续)石家庄电子工业部第十三研究所(石家庄050051)李栓庆1994年台湾产值突破百亿,增长率达到231%。需求量增大给半导体制造商带来新的机会和希望。台湾的半导体厂家都认识到了只有大投入才能得到较大的回报,所以许多半导体厂家纷纷...
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关键词
半导体工业
台湾
电子工业
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职称材料
360°模拟移相器平衡插入损耗和拓宽频带的研究
被引量:
1
4
作者
刘克
田小建
+1 位作者
衣茂斌
刘悦
《微波学报》
CSCD
北大核心
2000年第5期624-627,560,共5页
本文论证了用电阻补偿法平衡 360°模拟移相器插入损耗波动的正确性 ,并推导出确定移相器频带宽度的目标函数 ,籍 CAD给出移相器在最大带宽条件下的有关设计参量 ,通过直观曲线为选择变容二极管作理论依据。采用微波集成电路工艺制...
本文论证了用电阻补偿法平衡 360°模拟移相器插入损耗波动的正确性 ,并推导出确定移相器频带宽度的目标函数 ,籍 CAD给出移相器在最大带宽条件下的有关设计参量 ,通过直观曲线为选择变容二极管作理论依据。采用微波集成电路工艺制作的模拟移相器在 1.3~ 2 .1GHz范围内可获得 360°连续可变相移 ,最大调相电压 18V,中心频率线性度优于± 2 .5% ,插入损耗波动小于 3d B。
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关键词
频带
插入损耗波动
线性移相
模拟移相器
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职称材料
直流磁控溅射中氩气压力对WSi/GaAs系统的影响
被引量:
1
5
作者
宫俊
孙铁囤
+2 位作者
张文敏
周南生
马振昌
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期35-38,共4页
以WSi复合材料作为靶源,采用直流磁控溅射工艺成膜,研究了在不同氩气(载能粒子)压力条件下,800℃、17min退火前后WSi薄膜及WSi/GaAs系统的性能。包括用显微照像观察不同氩气压力下淀积膜退火前后表面变化;...
以WSi复合材料作为靶源,采用直流磁控溅射工艺成膜,研究了在不同氩气(载能粒子)压力条件下,800℃、17min退火前后WSi薄膜及WSi/GaAs系统的性能。包括用显微照像观察不同氩气压力下淀积膜退火前后表面变化;SEM分析系统断面、AES分析膜层与GaAs衬底的界面情况;并通过肖特基二极管I-V特性的测量研究其整流特性。实验结果表明,在1.3~1.6pa氩气压力下淀积的WSi膜层与GaAs衬底所构成的系统具有良好的物理、化学和电学性能,能够满足自对准GaAsMESFET的工艺要求。
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关键词
溅射
硅化钨薄膜
氩气压力
直流磁控溅射
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职称材料
GaAs经硫和硒钝化处理后的光致发光
被引量:
2
6
作者
邢东
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期44-46,共3页
研究了用Na_2S·9H_2O,(NH_4)_2S_x和Se钝化的GaAs的光致发光。这种钝化是经湿法化学处理来进行的。硫和硒处理后,我们观察到光致发光强左有明显的增强。同时我们也比较了三种钝化方法的效果。经分析...
研究了用Na_2S·9H_2O,(NH_4)_2S_x和Se钝化的GaAs的光致发光。这种钝化是经湿法化学处理来进行的。硫和硒处理后,我们观察到光致发光强左有明显的增强。同时我们也比较了三种钝化方法的效果。经分析认为,这种增强是由于表面复合中心密度的减小而造成的。
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关键词
硫
硒
钝化处理
GAAS
光致发光
表面处理
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职称材料
中国半导体产业现状
7
作者
张汉三
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期1-5,共5页
从生产动向、生产预测、市场动向、器件和工艺技术、海外投资和面临的问题等方面,介绍了中国半导体产业的现状。
关键词
中国
半导体产业
动向
预测
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职称材料
光通信装置的安装技术
8
作者
张利民
柴广跃
张汉三
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期22-25,32,共5页
本文以混合集成技术为中心,介绍了光通信装置安装技术的现状和动向。作为一个例子,介绍了光信息传输,总线的构成与安装。
关键词
光通信装置
安装技术
混合集成
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职称材料
题名
用于微电子封装的化学镀纯镍工艺
被引量:
3
1
作者
刘巧明
夏传义
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期14-16,共3页
文摘
研究了一种能获得厚的纯镍化学镀溶液,讨论了溶液中各种化学成分、操作温度、稳定剂对沉积速度的影响,在此基础上确定了最佳配方及操作程序.对电子元件引线镀镍、镀金后的拉力进行了测试,对镀层硬度、方阻进行了测定.此方法适用于电子封装中W、Mo-Mn金属化及Cu、Ni、可伐等金属上的镀覆.
关键词
镀镍
封装
微电子
镍合金
电镀
分类号
TN405.94 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
国军标器件3DG135的可靠性研究
2
作者
崔恩录
穆杰
王于辉
秦仲波
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期16-18,共3页
文摘
较详细地叙述了3DG135在可靠性研究过程中,技术攻关的主要内容及所采取的工艺措施,并给出三个检验批次认证的实验结果。
关键词
国军标
硅超高频晶体管
半导体器件
可靠性
分类号
TN306 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
台湾半导体工业现状(续)
3
作者
李栓庆
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期6-7,共2页
文摘
台湾半导体工业现状(续)石家庄电子工业部第十三研究所(石家庄050051)李栓庆1994年台湾产值突破百亿,增长率达到231%。需求量增大给半导体制造商带来新的机会和希望。台湾的半导体厂家都认识到了只有大投入才能得到较大的回报,所以许多半导体厂家纷纷...
关键词
半导体工业
台湾
电子工业
分类号
F426.63 [经济管理—产业经济]
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职称材料
题名
360°模拟移相器平衡插入损耗和拓宽频带的研究
被引量:
1
4
作者
刘克
田小建
衣茂斌
刘悦
机构
集成光
电子
国家重点联合实验室吉林大学实验区
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《微波学报》
CSCD
北大核心
2000年第5期624-627,560,共5页
基金
国家自然科学基金! ( 698760 14)
博士点基金!( 970 18311)资助项目
文摘
本文论证了用电阻补偿法平衡 360°模拟移相器插入损耗波动的正确性 ,并推导出确定移相器频带宽度的目标函数 ,籍 CAD给出移相器在最大带宽条件下的有关设计参量 ,通过直观曲线为选择变容二极管作理论依据。采用微波集成电路工艺制作的模拟移相器在 1.3~ 2 .1GHz范围内可获得 360°连续可变相移 ,最大调相电压 18V,中心频率线性度优于± 2 .5% ,插入损耗波动小于 3d B。
关键词
频带
插入损耗波动
线性移相
模拟移相器
Keywords
Insertion loss fluctuation,Matching,Linear phase modulation
分类号
TN454 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
直流磁控溅射中氩气压力对WSi/GaAs系统的影响
被引量:
1
5
作者
宫俊
孙铁囤
张文敏
周南生
马振昌
机构
西安
电子
科技大学微
电子
所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期35-38,共4页
文摘
以WSi复合材料作为靶源,采用直流磁控溅射工艺成膜,研究了在不同氩气(载能粒子)压力条件下,800℃、17min退火前后WSi薄膜及WSi/GaAs系统的性能。包括用显微照像观察不同氩气压力下淀积膜退火前后表面变化;SEM分析系统断面、AES分析膜层与GaAs衬底的界面情况;并通过肖特基二极管I-V特性的测量研究其整流特性。实验结果表明,在1.3~1.6pa氩气压力下淀积的WSi膜层与GaAs衬底所构成的系统具有良好的物理、化学和电学性能,能够满足自对准GaAsMESFET的工艺要求。
关键词
溅射
硅化钨薄膜
氩气压力
直流磁控溅射
Keywords
Semicondctor equations Avalanche generation Mixed boundary value problem Global weak solution
分类号
TN305.92 [电子电信—物理电子学]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
GaAs经硫和硒钝化处理后的光致发光
被引量:
2
6
作者
邢东
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期44-46,共3页
文摘
研究了用Na_2S·9H_2O,(NH_4)_2S_x和Se钝化的GaAs的光致发光。这种钝化是经湿法化学处理来进行的。硫和硒处理后,我们观察到光致发光强左有明显的增强。同时我们也比较了三种钝化方法的效果。经分析认为,这种增强是由于表面复合中心密度的减小而造成的。
关键词
硫
硒
钝化处理
GAAS
光致发光
表面处理
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
中国半导体产业现状
7
作者
张汉三
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第1期1-5,共5页
文摘
从生产动向、生产预测、市场动向、器件和工艺技术、海外投资和面临的问题等方面,介绍了中国半导体产业的现状。
关键词
中国
半导体产业
动向
预测
Keywords
comprehensive multicriterion estimation, nondimensionalization, synthesis
分类号
F426.61 [经济管理—产业经济]
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职称材料
题名
光通信装置的安装技术
8
作者
张利民
柴广跃
张汉三
机构
石家庄电子工业部第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期22-25,32,共5页
文摘
本文以混合集成技术为中心,介绍了光通信装置安装技术的现状和动向。作为一个例子,介绍了光信息传输,总线的构成与安装。
关键词
光通信装置
安装技术
混合集成
分类号
TN929.1 [电子电信—通信与信息系统]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于微电子封装的化学镀纯镍工艺
刘巧明
夏传义
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
1995
3
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职称材料
2
国军标器件3DG135的可靠性研究
崔恩录
穆杰
王于辉
秦仲波
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
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职称材料
3
台湾半导体工业现状(续)
李栓庆
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
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职称材料
4
360°模拟移相器平衡插入损耗和拓宽频带的研究
刘克
田小建
衣茂斌
刘悦
《微波学报》
CSCD
北大核心
2000
1
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职称材料
5
直流磁控溅射中氩气压力对WSi/GaAs系统的影响
宫俊
孙铁囤
张文敏
周南生
马振昌
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
1
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职称材料
6
GaAs经硫和硒钝化处理后的光致发光
邢东
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
2
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职称材料
7
中国半导体产业现状
张汉三
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
8
光通信装置的安装技术
张利民
柴广跃
张汉三
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
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职称材料
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