期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
GaN基HEMT器件的表面陷阱充电效应研究
1
作者 罗谦 杜江锋 +5 位作者 罗大为 朱磊 龙飞 靳翀 周伟 杨谟华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期856-858,867,共4页
设计了一种实验方法用以研究AlGaN/GaN外延表面陷阱充电效应对于薄膜电阻的影响,该效应与GaN基HEMT电流崩塌现象直接相关。测量获得了AlGaN/GaN异质结结构薄膜电阻在周期栅脉冲信号下的变化规律。薄膜电阻在低频区域对脉冲频率十分敏感... 设计了一种实验方法用以研究AlGaN/GaN外延表面陷阱充电效应对于薄膜电阻的影响,该效应与GaN基HEMT电流崩塌现象直接相关。测量获得了AlGaN/GaN异质结结构薄膜电阻在周期栅脉冲信号下的变化规律。薄膜电阻在低频区域对脉冲频率十分敏感,而在高频时出现饱和。当信号频率足够高时(≥4kHz),AlGaN/GaN薄膜将呈现高阻,器件关断,说明二维电子气已被表面陷阱电荷耗尽。该实验为研究表面陷阱与电流崩塌效应的关系提供了新的证据。 展开更多
关键词 氮化镓 表面态 电流崩塌
在线阅读 下载PDF
AlGaN/GaN HEMT击穿特性与受主陷阱相关性研究 被引量:1
2
作者 严地 罗谦 +4 位作者 卢盛辉 靳翀 罗大为 周伟 杨谟华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期226-229,共4页
通过计算沟道电场的分布,研究了受主陷阱对AlGaN/GaN HEMT器件击穿特性的影响。研究发现,有受主陷阱的条件下,漏端出现电场峰值,栅端电场峰值被大幅度削减。当Vg=0 V,Vd=60 V,受主陷阱浓度NA=1×1017cm-3时,栅端电场峰值与不加受主... 通过计算沟道电场的分布,研究了受主陷阱对AlGaN/GaN HEMT器件击穿特性的影响。研究发现,有受主陷阱的条件下,漏端出现电场峰值,栅端电场峰值被大幅度削减。当Vg=0 V,Vd=60 V,受主陷阱浓度NA=1×1017cm-3时,栅端电场峰值与不加受主陷阱时相比可下降到56%。受陷阱电荷影响,当击穿电压大于某个电压时,漏端电场峰值超过栅端电场峰值,此时,击穿发生在漏端。该仿真结果修正了HEMT击穿总发生在栅端边缘处的传统看法。 展开更多
关键词 铝镓氮 氮化镓 高电子迁移率晶体管 电场 受主陷阱
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部