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题名ArF浸没式光刻胶用抗水涂层研究进展
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作者
郑祥飞
徐亮
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
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机构
瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司
江南大学化学与材料工程学院
中石化(上海)石油化工研究院有限公司
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出处
《涂料工业》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期74-81,共8页
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基金
东吴科技领军人才计划项目(WC202252)。
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文摘
氟化氩(ArF)浸没式光刻需在光刻胶表面形成抗水涂层,阻挡光刻胶和水之间组分交换。抗水涂层对光刻胶的分辨率、工艺窗口、低缺陷要求起着重要作用,平衡抗水涂层的疏水性和碱溶性是设计聚合物结构的重点和难点。分析了形成抗水涂层的方法和成膜机理,对比了不同方法的优缺点,根据聚合物所含官能团及其碱溶性,对抗水涂层聚合物进行了分类总结,重点阐述抗水涂层聚合物的结构和性能要求,尤其关注了聚合物侧链的位阻效应和氢键作用对涂层的疏水性影响。最后对抗水涂层的应用和发展进行了展望。
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关键词
ArF浸没式光刻
抗水涂层
疏水和碱溶性
聚合物结构
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Keywords
ArF immersion lithography
anti-water coating
hydrophobic and alkaline solubility
polymer structure
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分类号
TQ635.9
[化学工程—精细化工]
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题名ArF光刻胶成膜树脂研究进展
被引量：2
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作者
郑祥飞
徐亮
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
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机构
瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司
江南大学化学与材料工程学院
中石化(上海)石油化工研究院有限公司
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出处
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第S02期126-130,共5页
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基金
东吴科技领军人才计划项目(WC202252)
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文摘
ArF曝光分为干式光刻和浸没式光刻,结合多重曝光技术,分辨率覆盖90~97nm,是芯片制造的主流工艺。ArF光刻胶要求透光率高(193nm波长处)、分辨率高、感度快、抗刻蚀性强、边缘粗糙度小及缺陷少,因此对成膜树脂提出了更高要求。目前报道的ArF光刻胶成膜树脂大致分为三类:(甲基)丙烯酸酯体系;环烯烃体系;马来酸酐体系。主要对三类成膜树脂进行了分类总结,并介绍成膜树脂结构的特点。
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关键词
ArF光刻
光刻胶性能
成膜树脂
聚合物结构
研究进展
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Keywords
ArF lithography
photoresist performance
film-forming resins
polymer structure
progress
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分类号
O63
[理学—高分子化学]
TQ32
[化学工程—合成树脂塑料工业]
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