-
题名辉光放电光谱激发源的射频功率驱动及自动控制系统
被引量:6
- 1
-
-
作者
万真真
王永清
施宁
周颖昌
唐予军
王光磊
-
机构
河北大学电子信息工程学院
瑞士柯帕斯服务有限公司北京代表处
-
出处
《高电压技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期1942-1948,共7页
-
基金
国家自然科学基金(61440006)
河北省自然科学基金(B2014201008)~~
-
文摘
射频辉光放电原子发射光谱仪(RF GD-OES)的显著优势在于既能分析导体样品,又能直接分析非导体固体样品,在微纳米非金属涂镀层材料的逐层分析领域有着广泛应用。为此,介绍了射频辉光放电光谱激发源采用的射频功率电源及功率匹配器的工作原理,并结合双向可控硅交流调压技术研制了射频电源的计算机自动控制系统,给出了射频输出信号的计算机控制结果。采用本射频功率驱动及自动控制系统,结合自行研制的Grimm型辉光放电激发源,对有机防腐涂层样品进行了溅射激发,溅射效果良好。给出了溅射坑表面形貌图以及显微照片,经实验测得,逐层溅射速率为52.9 nm/s。采用本系统对1Cr18Ni9Ti不锈钢标准样品进行了分析精密度测试,Cr、Cu、Ti、Al元素测试结果相对标准偏差(RSD)均<2.6%。
-
关键词
射频
功率匹配
辉光放电
光谱仪
溅射
等离子体
可控硅
-
Keywords
radio frequency
power matching
glow discharge
optical emission spectrometer
sputter
plasma
silicon controlled rectifier
-
分类号
TH744.11
[机械工程—光学工程]
-
-
题名基于高能粒子溅射的表面深度剖析方法现状及应用
被引量:7
- 2
-
-
作者
万真真
付新新
王永清
施宁
-
机构
河北大学电子信息工程学院
瑞士柯帕斯服务有限公司北京代表处
-
出处
《高电压技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期1946-1953,共8页
-
基金
国家自然科学基金(61440006)
河北省自然科学基金(B2014201008)
+1 种基金
河北大学研究生教育教学改革研究项目(Yjs2016-33)
河北大学实验室开放项目(sy201646)~~
-
文摘
近年来国内外对于材料表面问题的研究非常活跃。材料表面深度剖面分析方法不仅能像均质材料的分析方法那样获得表面元素含量的信息,而且能够用来表征从表面到基体各元素成份的纵深分布情况。为了解当前材料表面深度剖面分析技术及发展状况,文章从各类高能粒子入射样品表面的分析机理入手,介绍了二次离子质谱法、俄歇电子能谱法、X射线光电子能谱法、辉光放电光谱法、激光诱导击穿光谱法这5种可用于深度剖析的分析方法,它们通常使用高能入射粒子轰击样品表面,将待测样品逐层原子化或离子化后,再通过光谱、质谱或电子检测装置测得元素含量的纵深分布信息。在详细阐明了这5种深度剖析方法的分析原理、分析特点、溅射坑型及其在材料表面分析中的典型应用后,分析和探讨了这几类深度剖析方法在入射粒子、适合样品、可测试元素、是否可定量分析、应用领域等方面的对比情况,明确了它们在深度剖面分析领域的各自优势和不足,指出了对几种分析技术的综合运用,有时可改进单一方法的适用性和准确度。
-
关键词
高能粒子
深度剖面分析
二次离子质谱
俄歇电子能谱
X射线光电子能谱
辉光放电光谱
激光诱
导击穿光谱
等离子体
-
Keywords
high energy particle
depth profile analysis
SIMS
AES
XPS
GD-OES
LIBS
plasma
-
分类号
TB30
[一般工业技术—材料科学与工程]
-