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LD泵浦Nd∶GdVO_4/GaAs被动调Q激光器研究 被引量:6
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作者 杜晨林 阮双琛 +3 位作者 于永芹 秦连杰 邵宗书 孟宪林 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期774-776,共3页
报道了采用大功率半导体激光器端面泵浦Nd∶GdVO4 晶体 ,利用GaAs晶片兼作饱和吸收被动调Q元件和输出耦合镜 ,实现了 1.0 6 μm激光的被动调Q运转 在泵浦功率为 13.9W时 ,获得最高平均输出功率为 3.6W ,脉冲宽度为 2 5 2ns ,单脉冲能量... 报道了采用大功率半导体激光器端面泵浦Nd∶GdVO4 晶体 ,利用GaAs晶片兼作饱和吸收被动调Q元件和输出耦合镜 ,实现了 1.0 6 μm激光的被动调Q运转 在泵浦功率为 13.9W时 ,获得最高平均输出功率为 3.6W ,脉冲宽度为 2 5 2ns ,单脉冲能量为 2 7μJ以及峰值功率为 10 展开更多
关键词 半导体激光器泵浦 ND:GDVO4晶体 GAAS 被动调Q
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